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고속 임프린팅 및 고속 얼라인 공정기술 개발
Development of Nanoimprint Lithography Process Technology with High Speed Imprinting and High Speed Alignment 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 순천향대학교 산학협력단
SoonChunHyang University
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2013-07
과제시작연도 2012
주관부처 교육과학기술부
Ministry of Education and Science Technology(MEST)
등록번호 TRKO201300034725
과제고유번호 1345177243
사업명 일반연구자지원
DB 구축일자 2013-12-21
DOI https://doi.org/10.23000/TRKO201300034725

초록

1. 1차년도: 나노임프린트(열 방식) 리소그래피 공정에서 가열온도 변화에 대한 충전공정을 시뮬레이션 하였다. 임프린팅 속도를 향상시키기 위해서는 가열온도를 최대한 낮추어야 하므로, 가열온도를 낮추는 경우 패턴 전사 특성 및 공정 전체에 미치는 영향을 분석하였다. 또 다른 주제로 이형 공정에서의 잔류층 수축 분석을 시도하였다. 열 방식 뿐만 아니라 UV 방식 임프린트 공정에서도 잔류층 수축 문제는 매우 중요하다. 잔류층 수축은 레지스트 재질의 영향이 크며, 레지스트와 스탬프 사이의 마찰력과 접착력의 차이에서 발생하는데, 1차년도에는

목차 Contents

  • 일반연구자지원사업 최종(결과)보고서 ... 1
  • 목차 ... 3
  • I. 연구결과 요약문 ... 4
  • II. 연구내용 및 결과 ... 5
  • 1. 연구과제의 개요 ... 5
  • 2. 국내외 기술개발 현황 ... 5
  • 3. 연구수행 내용 및 결과 ... 6
  • 4. 목표 달성도 및 관련 분야에의 기여도 ... 7
  • 5. 연구결과의 활용계획 ... 8
  • 6. 연구과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 8
  • III. 연구성과 ... 9

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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