초록 ▼

1. 최종목표
본 과제에서 핵심 기술은 최종 생산될 기판을 기존에 셀제조업체에서 수행하던 텍스처링 공정까지 완료하여 공급함으로써 셀제조업체의 공정시간 및 비용 단축과 안정적인 품질의 텍스처링 기관을 공급하는 것이라 할 수 있음.
주관기관에서는 보유하고 있는 slicing 장비의 진동 및 공정오차 등을 최소화시킴으로써 개발 목표인 160um 의 poly Si 기관을 제작할 수 있는 조건을 확립한 것임
또한 One batch 타입의 습식표면처리 장치를 이용하여 절단한 Si 웨이퍼에 표면 Texturing 기술을 개발하

1. 최종목표
본 과제에서 핵심 기술은 최종 생산될 기판을 기존에 셀제조업체에서 수행하던 텍스처링 공정까지 완료하여 공급함으로써 셀제조업체의 공정시간 및 비용 단축과 안정적인 품질의 텍스처링 기관을 공급하는 것이라 할 수 있음.
주관기관에서는 보유하고 있는 slicing 장비의 진동 및 공정오차 등을 최소화시킴으로써 개발 목표인 160um 의 poly Si 기관을 제작할 수 있는 조건을 확립한 것임
또한 One batch 타입의 습식표면처리 장치를 이용하여 절단한 Si 웨이퍼에 표면 Texturing 기술을 개발하여 특성을 평가함으로써 기판으로서의 성능향상을 입증함
2. 개발내용 및 결과
□ Si ingot 절단기술
주관기관에서 보유중인 절단장비의 진동 및 변형 최소화 기술을 고안하여 공정조건을 최적화함으로써 160um급의 웨이퍼 생산기술을 확보하였다.
-절삭유 제조방식, 절삭유 사용방법, Saw RPM, Z-axis feeding speed 등의 조건 변화
□ 표면 Texturing 기술개발
참여기관의 화학약품 제조기술을 기반으로 다양한 에칭액을 제조하여 에칭장비에서 반사율 변화를 비교함으로써 최적의 에칭액 조건을 확립하였다.
- 불소, 질산, 아세트산, DI water 등의 혼합비에 따른 반사율 변화
3. 기대효과 (기술적 및 경제적 효과)
기존 보유기술을 바탕으로 160um급 초박형 태양전지 기관을 절단하는 기술을 확보하고, 표면처리(텍스처링) 및 기판제품화를 시킴으로써 차별화된 제품화가 가능하여 매년 100% 이상의 매출증가 및 수입대체 효과가 발생할 것으로 예상한다.
4. 적용분야
- 벌크 실리콘 태양전기 기판
- 반도체 공정 관련 실리콘 제품의 미세 정밀 가공 기술

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 생산기술사업화 지원사업(현장맞춤형 기술개발 부문, 이전기술사업화 부문) 최종보고서 ... 2
• 제출문 ... 3
• 생산기술사업화 지원사업(현장맞춤형 기술개발 부문, 이전기술사업화 부문) 최종보고서 초록 ... 4
• 목차 ... 5
• 제 1 장 서론 ... 6
• 제 1 절 기술개발의 필요성 ... 6
• 제 2 절 국내.외 관련기술의 현황 ... 8
• 제 3 절 기술개발 추진전략 및 체계 ... 18
• 제 2 장 기술개발 내용 및 방법 ... 20
• 제 1 절 기술개발 목표 ... 20
• 제 2 절 세부 기술개발 내용 ... 21
• 제 3 장 결과 ... 25
• 제 1 절 Si 잉곳 절단기술 ... 25
• 제 2 절 표면 Texturing 기술개발 ... 44
• 제 3 절 기술개발사업 성과 및 기대효과 ... 57
• 끝페이지 ... 68