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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2013-01 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
등록번호 | TRKO201400001335 |
과제고유번호 | 1345194364 |
사업명 | 한국과학기술원연구운영비지원(0.5) |
DB 구축일자 | 2014-06-07 |
키워드 | 그래핀 pn 접합.주사터널링현미경.뒷면전극.베셀라고렌즈.클라인투과.graphene pn junction.Scanning Tunneling Microscope.backgate.Veselago lens.Klein tunneling. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201400001335 |
- 차세대 나노 전자 소재로 떠오르는 그래핀의 특수한 전자 물성을 제어하기 위해, 나노미터 수준 간격으로 분산 배치된 뒷면 전극과 hBN을 이용한 초정밀 그래핀 pn접합 소자를 제작을 계획하였다.
- 물리적 박리방법을 이용하여 샘플을 제작하였고, 원하는 곳에 그래핀과 hBN을 1 마이크로미터 이하의 오차를 가지고 트랜스퍼 하는 기술, 그리고 대면적 그래핀을 얻는 기술을 획득하였다.
- STM을 이용하여 그래핀 pn접합 소자를 분석하여 클라인투과와 베셀라고렌즈 효과를 검증을 위한 후속연구가 필요하며, 이는 그래핀 기반의 새
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