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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)코빅 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2013-11 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
과제관리전문기관 | 중소기업기술정보진흥원 Korea Technology & Information Promotion Agency for SMEs |
등록번호 | TRKO201400013694 |
과제고유번호 | 1425075728 |
사업명 | 창업성장-첫걸음기업지원사업 |
DB 구축일자 | 2014-11-10 |
키워드 | 물리적진공증착.스퍼터링타겟.마그네트론 스퍼터링.회전형증착원.증착율. |
개발목표
계 획
고속 고효율 Sputtering 증착원 개발
실 적
750mm급 Cylindrical Cathode 제작기술 개발 및 시제품 제작
정량적 목표항목 및 달성도
1. Cathode Size; 1041mm
2. 증착율; 1345Å
3. Target사용량; 70%
4. 인가전원; 9W/cm2
5. Uniformity; 3.3%
6. 비저항; 3.67×10-6
기대효과
원통형 캐소드 개발을 통한 장치 제작관련 기술
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