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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)한국진공야금 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2013-12 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201400013959 |
과제고유번호 | 1425076877 |
사업명 | 민관공동투자기술개발사업 |
DB 구축일자 | 2014-09-20 |
키워드 | 스퍼터링 타겟.구리.진공박막.니켈크롬.고순도. |
개발목표
계 획
◦ 진공박막 제조용 고순도 Cu, Ni-Cr 스퍼터링 타겟 제조기술 개발
실 적
- Cu(4N5) 타겟 개발
- NiCr(3N5) 타겟 개발
정량적 목표항목 및 달성도
1. Ni-Cr 조성 편차 80±0.4% / 2. Cu 조성 편차 99.99%이상 / 3. Ni-Cr 순도 99.95% 이상 / 4. Cu 순도 99.995% 이상 / 5. Ni-Cr 본딩율 99% 이상 / 6. Ni-Cr 결정립 크기 110㎛ / 7. Cu 결정립 크기 55㎛
기대효과
◦ FCCL 용
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