초록 ▼

최종목표
○ 고순도 헥사풀루오로프로필렌 제조 상용화 기술
- C₃F₆ 순도 99.9 % 이상 (1단계: 99.9 %, 2단계: 99.9 %)
- 처리용량 20 kg/day (1단계: 증류/흡착 공정 1kg/day,
2단계 20 kg/day)
○ 고순도 헥사풀루오로프로필렌 플라즈마 처리 가스 적용
에칭/세정 능력 평가
- 대체세정가스 성능 평가 기술 확보
○ 고순도 헥사풀루오로프로필렌 활용 기술
- C3F6 유도 표면코팅 신소재 개발
(표면에

최종목표
○ 고순도 헥사풀루오로프로필렌 제조 상용화 기술
- C₃F₆ 순도 99.9 % 이상 (1단계: 99.9 %, 2단계: 99.9 %)
- 처리용량 20 kg/day (1단계: 증류/흡착 공정 1kg/day,
2단계 20 kg/day)
○ 고순도 헥사풀루오로프로필렌 플라즈마 처리 가스 적용
에칭/세정 능력 평가
- 대체세정가스 성능 평가 기술 확보
○ 고순도 헥사풀루오로프로필렌 활용 기술
- C3F6 유도 표면코팅 신소재 개발
(표면에너지 14.0 dyne/cm)
개발내용 및 결과
○ 99.9% 이상 헥사풀루오로프로필렌 제조 처리용량 20kg/day 실증화 장치를 설계하고 운전시 C3F6 순도 99.9% 이상, 처리용량 25kg/day 생산 가능
○ 대체 에칭/세정 가스의 플라즈마 시험 장치구성 및 성능시험
- 대체 가스 공급 라인 및 프로그램을 개발하여, 조건 변화에 따른 에칭 능률 변화를 시험하였음.
○ 고순도 헥사풀루오로프로필렌 활용 기술
- 고순도 헥사풀루오로프로필렌 활용 IT용 저 표면에너지(14dyne/cm) 신소재 광경화형 코팅제 개발
기술개발배경
국내에서는 아직 헥사플루오로프로필렌을 반도체 에칭/세정 대체물질로 검토한 적이 없고, 대체에칭/세정에서 대체물질을 사용하여 본격적인 연구가 진행된 것은 F2가스를 사용하는 것 정도 밖에 없는 매우 빈약한 실정이다. 그 이유로는 국내에서는 대체 에칭/세정제로 사용할 수 있는 원료가 생산되는 곳이 없었으나, 니카코리아에서 정밀화학제품 생산시 부산물로 얻어져 폐기되고 있는 헥사플루오로프로필렌을 고순도화하여 제품화 하려고 한다. 외국에서는 헥사플루오로프로필렌을 대체물질로 지속적으로 검토중에 있으며, 특수 가스 공급업체인 Mathesontrigas에서 99.8%이상의 헥사플루오로프로필렌을 판매하는 것으로 조사되었다. 또한 미국의 Dupont사는 플라즈마 에칭/세정 가스로 판매중인 제품이 8종인데 그 중의 한가지가 헥사플루오로프로필렌이다.
핵심개발기술의 의의
반도체 생산공정에서 배출되는 PFCs를 분해하기 위한 기술 개발이 산자부 지원 청정생산기술개발사업을 통하여 일부 수행되었다. 그러나, PFCs 대체 가스에 대한 연구는 현재까지 거의 수행되지 않고 있었는데 본 연구를 통해 국내 대체 에칭/세정 가스의 성능시험 초석을 마련하였다.
적용분야
반도체 제조, IT 분야에 사용되는 고부가가치 정밀화학제품