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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-12 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
등록번호 | TRKO201500001976 |
DB 구축일자 | 2015-05-02 |
키워드 | 화학기계적연마.초고압.연마율.사파이어 웨이퍼.연마균일도.CMP.high pressure.MRR.Sapphire wafer/Uniformity. |
핵심기술
LED용 사파이어 웨이퍼의 CMP장비 초고압 가압모듈 공정개선
개발의 목표
○ LED용 웨이퍼 제조를 위한 연마용(CMP) 초고압 가압모듈 공정 개선
- 초정밀 연마공정은 기계, 반도체, 광학 분야 등 핵심 부품의 최종 마무리 가공에 필수적으로 사용되며, 높은 부가가치를 창출하는 공정
- 현재 사파이어 CMP 가공에서는 낮은 재료제거율과 높은 소모품 가격으로 인하여 공정 중에 많은 공정 시간과 비용이 발생
- 상기 문제점 해결을 위해 1,000g/㎠ 이상의 고압 조건을 적용함으로서 단위시간당
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