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레이저와 tapered capillary 플라즈마 소스를 이용한 GeV급 고에너지 전자빔 발생 및 fs hard X-ray 펄스 광원 기술개발 연구
Generation of GeV-level high-energy election beams and their application sutdy for fs hard X-ray light sources 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 광주과학기술원
Gwangju Institute of Science and Technology
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2014-04
과제시작연도 2013
주관부처 미래창조과학부
Ministry of Science, ICT and Future Planning
등록번호 TRKO201500002471
과제고유번호 1345202144
사업명 중견연구자지원
DB 구축일자 2015-05-16
키워드 차세대가속기.전자빔.플라즈마.X선.광원.advanced accelerator.electron beam.capillary plasma.X-ray.light source.
DOI https://doi.org/10.23000/TRKO201500002471

초록

연구의 목적 및 내용
고출력 레이저빔을 플라즈마 속에 집속시켜 초강력 전기장을 발생시키고 긴 거리에 걸쳐 전자를 가속시키기 위해서는 레이저빔을 optical guiding 시켜야 하는데, 이를 위하여 본 연구에서는 capillary 플라즈마 소스 기술을 개발하고자 한다. 특히, 가속전기장과 가속되는 전자들의 속도 차이에 의해서 생기는 dephasing 문제 때문에 가속에너지에 제한이 발생하는데, 본 연구에서는 이 문제를 해결하기 위하여 레이저의 진행방향으로 플라즈마 밀도가 서서히 증가하는 density-tapered capil

Abstract

Purpose&contents
In this research, we are going to develop core technologies for laser-plasma acceleration using a capillary plasma source. Especially we want to develop a density-tapered capillary plasma source, where the plasma density gradually increases along the laser propagation direction t

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