초록 ▼

□ 개발목표
계획
고정밀 위치제어 시스템 개발
고정밀 에어 플로팅 시스템 개발
실적
스테이지/에어플로팅 시스템
설계/제작 및 성능평가

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 위치 정확도 (um) : 계획(≤ ±1), 실적(≤ ±0.85)
2. 반복 정밀도 (um) : 계획(≤ ±0.5), 실적(≤ ±0.5)
3. 진직도 (um) : 계획(≤ ±5), 실적(≤ ±4.5)
4. 평탄도 (um) : 계획(≤ ±5), 실적(≤ ±4.5)
5. 속도 리플 (%) : 계획(≤

□ 개발목표
계획
고정밀 위치제어 시스템 개발
고정밀 에어 플로팅 시스템 개발
실적
스테이지/에어플로팅 시스템
설계/제작 및 성능평가

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 위치 정확도 (um) : 계획(≤ ±1), 실적(≤ ±0.85)
2. 반복 정밀도 (um) : 계획(≤ ±0.5), 실적(≤ ±0.5)
3. 진직도 (um) : 계획(≤ ±5), 실적(≤ ±4.5)
4. 평탄도 (um) : 계획(≤ ±5), 실적(≤ ±4.5)
5. 속도 리플 (%) : 계획(≤ ±0.05), 실적(≤ ±0.049)
6. 부상량 (PA, um) : 계획(150±30), 실적(150±22)
7. 부상량 (PV, um) : 계획(30±5), 실적(30±5)

□ 기대효과
Coating 공정 용 에어 플로팅 고정밀 위치 결정 시스템의 국산화로 약 342억원 이상의 수입 대체 효과
초정밀 위치제어 시스템 국산화 개발에 의한 대형 LCD 제조 공정 안정성 확보
반도체, 디스플레이, 태양전지 장비 시장의 경제성, 산업 인프라 확보

□ 적용분야
디스플레이: Coater 공정, 패턴 검사, 마스크리스 노광기, 레이저 응용장비 태양전지: 레이저 스크라이버, 신공정 장비

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 요약서(초록) ... 3
• 목차 ... 4
• 제1장 개발기술의 개요 ... 5
• 제1절 대상 기술의 개요 ... 5
• 제2절 기술의 필요성 ... 6
• 제2장 개발목표 및 개발내용 ... 8
• 제1절 기술개발 목표 ... 8
• 1. 연구 목표 ... 8
• 2. 주요 기술 개발 내용 (주관 기관) ... 8
• 2. 주요 기술 개발 내용 (위탁 연구 기관) ... 9
• 제2절 요소 기술 ... 9
• 2. 구동기 기술 ... 9
• 2. 모션 가이드 ... 10
• 3. 위치 피드백 ... 11
• 4. 제어 알고리즘 ... 12
• 5. 에어 플로팅 기술 ... 13
• 제3절 시제품 설계 및 제작 ... 14
• 1. 제어 시스템 구성 ... 14
• 2. 제어반 설계 ... 14
• 3. 고정밀 위치 제어 시스템 개념 설계 ... 15
• 4. FEM 해석 및 동특성 분석을 이용한 구조 최적 설계 ... 16
• 5. 고정밀 시스템 공기 부상 유닛 설계 ... 18
• 6. 고정밀 위치 제어 시스템 상세 설계 ... 46
• 7. 고정밀 위치 제어 시스템 조립 및 제작 ... 47
• 제4절 시제품 성능 평가 ... 48
• 1. 1차년도 시제품 성능 측정 결과 ... 49
• 2. 2차년도 시제품 성능 측정 결과 ... 54
• 3. 개발 목표 대비 성능 평가 ... 57
• 제3장 성과요약 및 기대효과 ... 59
• 1. 개발 성과 ... 59
• 2. 기대 효과 ... 59
• 끝페이지 ... 61