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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)후세메닉스 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2012-08 |
과제시작연도 | 2011 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201500017230 |
과제고유번호 | 1425067254 |
사업명 | 중소기업상용화기술개발지원 |
DB 구축일자 | 2015-11-10 |
키워드 | pre-attaching.Vacuum.Lamination.Laminator.PCB. |
□ 개발목표
계 획
반도체용 core 두께 0.06mm 이하의 박형 기판에 적용 가능한 가접기 일체형의 진공 라미네이터 개발
실 적
현재 가접기 장비 완성동 95% 수준이며, 라미네이터 경우 99% 수준임. 충분한 제품 Test 필요 함.
□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 대응 기판 두께 : 계획(0.06), 실적(현재 0.1mm까지 Test완료 0.06mm 동박 심사 전 Test예정)
2. Film부착편차 : 계획(1), 실적(현재 수준 1.5mm이내)
3. Plate 온도편차
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