최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 피에스케이(주) |
---|---|
연구책임자 | 채희선 |
참여연구자 | 조정희 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2013-10 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
과제관리전문기관 | 한국산업기술평가관리원 Korea Evaluation Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO201700001339 |
과제고유번호 | 1415123652 |
사업명 | 글로벌전문기술개발(주력,신산업) |
DB 구축일자 | 2017-09-20 |
키워드 | 포토레지스트.드라이 스트립.플라즈마 소스.애셔.수소 공정. |
최종목표
2단계3차년도(최종목표)
1)Ashing Rate: 0.8 um/min (450mm용 수소 플라즈마 공정)
2)Throughput : >200wfs/hr (시스템 구동 Check/PR Thickness 2000Å)
3) 1E16 Dose IMP Strip : Residue Free (Scope & SEM, 이물 분석 Tool)
4) 20나노급 공정 적용
개발내용 및 결과
반도체 공정 중 패턴을 형성한 후 사용된 포토 레지스터를 드라이 스트립 방식으로 제거하는 애싱 시스템으로 플라
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.