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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)테스 |
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연구책임자 | 이동덕 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2015-06 |
과제시작연도 | 2014 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO201600017236 |
과제고유번호 | 1415134636 |
사업명 | 글로벌전문기술개발(주력,신산업) |
DB 구축일자 | 2017-09-20 |
키워드 | 20나노미터급.450밀리미터.반도체.비정질탄소막.PECVD. |
최종목표
20nm급 및 450mm 반도체 공정용 차세대 PECVD ACL 장비 개발
개발내용 및 결과
개발내용
1) 고성능 플라즈마 소스 설계 및 제작 기술
2) 고성능 Process Module (PM) 설계 및 제작 기술
3) 차세대 Precursor 적용 기술
4) 고생산성 Transfer Module (TM),EFEM 설계 및 제작 기술
5) 양산 공정 기술
6) 장비 제어 기술
결과
1단계에서는 기존과 차별화된 방식의 플라즈마 소스 및 공정기술을 개발하고
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