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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
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연구책임자 | 이규환 |
참여연구자 | 최승목 , 김용훈 , 이지훈 , 최우성 , 박유세 , 이정훈 , 장명제 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2017-12 |
과제시작연도 | 2017 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO201800002143 |
과제고유번호 | 1711062501 |
사업명 | 재료연구소연구운영비지원 |
DB 구축일자 | 2018-03-10 |
키워드 | 전이금속계열 2D 소재.건식.습식.대면적.대량생산.2D TMDs materials.wet process.dry process.large areas.mass production. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201800002143 |
1. CVD 법에 의한 TMDs 합성 및 응용
1) 2D TMDs 단위 TFT 소자 응용연구
- 실용화 및 대면적화가 가능한 KIMS 고유 스퍼터링 공정을 접목한 2D 반도체소재 대면적 합성 기술 및 미래반도체 TFT 응용가능성 제시
- 2D 반데르 발스결합으로만 이루어진 헤테로소자를 개발하고 이의 광소자 응용 및 매커니즘 규명
- 원자층 도핑기술을 개발하여 2D-MoSe2 소재의 가스센싱 능력 향상 및 매커니즘 규명
2) 차세대 저전력 Flat panel display 소자응용을 위한 상보성 회로소자 구
Ⅳ. Research results
(1) Development of TMDs by CVD and device application
- Development of high-performance TFT device using the sputtering film
- Development of the CMOS inverter with large area using the n-MoS2, p-WSe2
(2) Development of TMDs by solution based method
- Devel
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