초록

1차년도
· 레이저설계: 1 kHz 반복율, 5 burst mode pulse 레이저출력
· 레이저전원장치 개발

2차년도
· 레이저 발진기 제작
· EO 모듈레이터 개발

3차년도
· Q-Switching: 1kHz
· Polychromator: APD 이용
· VEST 온도 측정: 1 point 반복율 10 Hz

(출처 : 요약서 3p)

Abstract ▼

Purpose & Contents
Diagnostics of pulsed plasma or rapidly changing plasma characteristics need a fast Thomson scattering system. The system is composed of a high frequency, high energy laser source and a fast spectrometer. In this study, our final goal is to develop more than 1 kHz high repetiti

Purpose & Contents
Diagnostics of pulsed plasma or rapidly changing plasma characteristics need a fast Thomson scattering system. The system is composed of a high frequency, high energy laser source and a fast spectrometer. In this study, our final goal is to develop more than 1 kHz high repetition rate and 5 pulse burst mode and 2J/pulse laser system, which has polychromator and consists the fast Thomson scattering diagnostic system. With this device, which can detect 1 eV - 10 keV electron temperature, the plasma characteristics in VEST will be measured.

Results
Technical results
1. Laser design: designed the laser using Yb fiber, diode laser and amplifier: 5 burst pulse
2. Development of laser power supply: fabricated the power supply of diode laser based on IGBT switch, pulse duration 100 μsec
3. Fabrication of the oscillator: 1.5 mJ/pulse
4. Development of EO modulator: fabricated the EO modulator and driver circuit on 1 kHz repetition rate and Q-switching
5. Development of Polychromator: APD
6. Measurement of electron temperature at 1 point and Repetition rate 10 Hz

Research results
1. Paper: 6/6
2. Patent: 3/1
3. Presenstation:22/12
4. Manpower training: Ph.D 1 person, Master degree: 2 people

Expected Contribution
If the present study of the fast thomson scattering system is smootly developed. we can measure the plasma characteristics at almost real-time.

This system will contribute to the study of real-time diagnostics of both temperature and density of the plasma in fusion reactor. and the TS system can enhance the efficiency of plasma process to improve productivity and competitiveness in the industries.

(출처 : SUMMARY 5p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 보고서 요약서 ... 3
• 요약문 ... 4
• SUMMARY ... 5
• CONTENTS ... 6
• 목차 ... 7
• 1. 연구 개발 과제의 개요 ... 8
• 1-1. 연구 개발 목적 ... 8
• 1-2. 연구 개발의 필요성 ... 8
• 1-3. 연구 개발 범위 ... 8
• 2. 국내외 기술 개발 현황 ... 10
• 3. 연구 수행 내용 및 결과 ... 11
• 1차년도 ... 13
• 2차년도 ... 20
• 3차년도 ... 46
• 4. 목표 달성도 및 관련 분야 기여도 ... 78
• 4-1. 목표 달성도 ... 78
• 4-2. 관련 분야 기여도 ... 79
• 5. 연구 결과의 활용 계획 ... 81
• 6. 연구 과정에서 수집한 해외 과학 기술 정보 ... 82
• 가. 1차년도 수집한 해외기술 정보 ... 82
• 나. 2차년도 수집기술 ... 86
• 다. 3차년도 수집 기술 ... 90
• 7. 연구 개발 결과의 보안 등급 ... 95
• 8. 국가과학기술종합정보시스템에 등록한 연구 시설·장비 현황 ... 95
• 9. 연구 개발 과제 수행에 따른 연구실 등의 안전 조치 이행 실적 ... 96
• 10. 연구 개발 과제의 대표적 연구 실적 ... 96
• 11. 기타 사항 ... 97
• 12. 참고 문헌 ... 97
• 끝페이지 ... 99