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모세관 현상을 이용한 고결정성 반도체 박막 형상화 기술 개발 및 소자 응용 연구
Development of capillary Force Patterning Technology for High-Crystalline Semiconductor Film Formation and Its Application in Electronic Devices 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한림대학교
HalLym University
연구책임자 박재훈
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2017-05
과제시작연도 2016
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO201800005830
과제고유번호 1345248307
사업명 이공학개인기초연구지원
DB 구축일자 2018-05-12
DOI https://doi.org/10.23000/TRKO201800005830

초록

본 과제는 분자 정렬도가 뛰어난 유기 반도체 박막을 형성하기 위하여 과학적 모세관 현상(Capillarity)을 이용한 용액 공정 소재의 고결정 형상화 기술 개발을 목표로 함. 궁극적으로는 모세관 현상 형상화(Capillary Force Patterning) 기술을 유기 박막 트랜지스터(Organic Thin-Film Transistor, TFT) 제작에 적용하였음. 또한 모세관 현상 형상화 몰드 구조 및 공정을 개선하여 다채널 패턴 형성 기술을 개발하고 응용 기술 연구를 수행하였음.

○ 1차년도: 플렉시블 복제 몰드

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 목차 ... 2
  • Ⅰ. 연구결과 요약문 ... 3
  • Ⅱ. 연구내용 및 결과 ... 4
  • 1. 연구과제의 개요 ... 4
  • 2. 국내외 기술개발 현황 ... 4
  • 3. 연구수행 내용 및 결과 ... 5
  • 4. 목표 달성도 및 관련 분야에의 기여도 ... 8
  • 5. 연구결과의 활용계획 ... 8
  • 6. 연구과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 8
  • Ⅲ. 연구성과 ... 9
  • 끝페이지 ... 16

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참고문헌 (25)

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