[보고서]수처리용 혁신 분리막 개발 및 응용

이정학

보고서 정보

주관연구기관

서울대학교
Seoul National University

연구책임자

이정학

참여연구자

원영준 , 이재우 , 채희로 , 김인애 , 장준희 , 김상룡 , 문윤희 , 이기백 , 조성준 , 김정은 , 심세나 , 이상현 , 남창현 , 권혁필 , 김윤진 , 윤택근 , 박승민 , 정정우 , 최동찬 , 아비나시시그델 , 박정원 , 곽효은 , 민소진 , 김기홍 , 임주완 , 최영권 , 신용현 , 위효빈 , 김정찬 , 김희중 , 정찬호 , 백영빈 , 이성근 , 이지호 , 유지현 , 서동우 , 신동윤 , 최세진 , 황현식 , 김의연 , 이중배 , 김돈영 , 김주한 , 이미화 , 김상미 , 이영발 , 한문종 , 윤성수 , 박형기 , 이경렬 , 이영기 , 정선엽 , 유재현 , 김승희 , 이주영 , 정윤동 , 박찬형 , 박준동 , 유미림 , 박병규 , 이종찬 , 강달영 , 안경현

보고서유형

3단계보고서

발행국가

대한민국

언어

한국어

발행년월

2016-09

과제시작연도

2015

주관부처

미래창조과학부
Ministry of Science, ICT and Future Planning

등록번호

TRKO201800006202

과제고유번호

1711029595

사업명

기후변화대응기술개발

DB 구축일자

2018-05-12

키워드

패턴형 분리막.그래핀 옥사이드.카본 나노튜브.생물막오염.Patterned Membrane.Graphene oxide.MINs.Carbon nanotube.CFD.Biofouling.

표 타 세부과제와 1세부과제의 상호 협업 체계.
표 패턴형 MF/UF 분리막의 최종 연구 목표
표 패턴형 RO 분리막의 최종 연구 목표
표 패턴형 분리막 (MF/UF/NF/RO)의 효과.
표 GO UF/RO 분리막의 최종 연구 목표
표 그래핀 옥사이드 (GO) 첨가로 인한 효과.
표 MINs 등방공경 분리막의 최종 연구 목표.
표 3 세부과제의 최종 연구개발 목표 및 개요.
표 나노물질첨가 폴리아마이드 복합막의 최종 연구 목표
표 전기화학적 식각공정의 기본 매커니즘에 대한 개념도
표 분리막 유동 해석 플랫폼의 발전 단계
표 수치모사를 통한 분리막 유동 해석 기법 개발의 최종 연구 목표.
표 입자계 유동 해석 기법을 통한 복잡 유동의 해석의 최종 연구 목표.
표 입자계 유동 해석 기법을 통한 복잡 유동의 해석의 최종 연구 목표.
표 선형 패턴 분리막.
표 필러형 패턴형 분리막.
표 중공사 내부와 외부에 패턴이 있는 중공사형 패턴 분리막.
표 패턴형 분리막의 모양과 크기.
표 임계 수투수도의 정의.
표 패턴 방향에 따른 임계 수투수도.
표 수증기 노출 시간에 따른 분리막의 밀도.
표 압인법을 이용한 패턴 UF 분리막 제조.
표 a) 지지층용 패턴 UF 분리막과 b) 패턴 NF/RO 분리막의 SEM 이미지, c) 패턴 NF/RO 분리막의 모식도와 패턴 크기.
표 Nanocomposite 분리막의 종류와 수처리 분야에서의 논문 편 수.
표 기능기를 도입하여 그래핀 옥사이드를 적층한 분리막의 모식도.
표 정전기적 인력을 이용하여 그래핀 옥사이드를 적층한 분리막과 그 효과의 모식도.
표 공유결합을 이용하여 그래핀 옥사이드를 코팅한 분리막과 그 효과의 모식도.
표 GO 분리막의 vacuum filtration method 제법.
표 GO 분리막의 전자 빔 공극 제법.
표 유럽 SELFMEM 연구 공동체.
표 Self-assembly방법을 이용해 제작한 분리막.
표 Klaus-Viktor Peinemann교수팀이 개발한 등방공경 PS-b-PEO UF 분리막.
표 MWCNT 표면에 NH2 작용기 개질 분석 (a.A) raw MWCNT (a.B) NH2기가 개질된 MWCNT의 FT-IR 데이터, (b.A) raw MWCNT (b.B) NH2기가 개질된 MWCNT의 SEM 사진.
표 TFC/NF 막에 대한 SEM 분석 사진
표 (a) 제조된 막들의 접촉각 실험 결과, (b, c) 서로 다른 양의 NH2-MWCNT를 사용하여 제조된 NF 막의 염 제거율과 염수의 flux 결과.
표 NH2-MWCNT/NF와 상업용 PA NF 그리고 bare NF의 방오성 실험.
표 연구에 사용한 SWNT 표면에 양쪽성 이온기를 도입한 화학적 구조 묘사.
표 각 물질에 대한 ATR-FTIR 데이터. PES 지지체(검은 선), Z-SWNT가 분산된 PES 지지체 (분홍 선), PA 막 (빨간 선), Z-SWNT가 분산된 PA 막 (파란 선).
표 AFM과 SEM 분석 사진.
표 (A) 가교제인 TMC 농도와 Z-SWNT의 농도에 따른 염 제거율과 여과 속도. (B) 다른 종류의 염에 대한 그리고 염의 농도에 따른 염 제거율 추이.
표 (A) freestanding rGO 막의 제조 과정. (B,C) 각각 200 nm, 20 nm 에 해당하는 두께를 지닌 freestanding rGO 막 사진. (D) 200, 100, 40, 20 nm 의 두께를 지닌 다양한 막들. E) AFM 사진. F) GO 양에 따른 두께 변화 추이.
표 MCE 필터로부터 rGO를 만든 과정.
표 rGO 막의 FO 실험.
표 분리막 주변의 개별 입자 궤적을 추적하는 연구.
표 1세부과제의 추진 체계.
표 연구 개발 추진 전략.
표 해수담수화용 혼합 탄소나노튜브 역삼투막 개발 및 응용을 위한 추진체계.
표 본 연구의 추진 체계.
표 다양한 크기와 간격을 갖는 패턴 몰드 모식도.
표 나노 기공을 갖는 산화알루미늄 옥사이드 형성과정.
표 나노 구조의 산화알루미늄 옥사이드의 a) 표면 및 b) 단면.
표 나노 패턴형 분리막 제작 과정.
표 나노 패턴형 UF PES막의 a) 표면과 b) 단면.
표 스핀코팅을 통한 MINs 분리막 제조과정.
표 스핀코터 장비.
표 피라미드 패턴형 복제 몰드를 이용한 스핀코팅 MINs 분리막 제작과정
표 캐스팅 나이프를 이용한 MINs 분리막 제조과정
표 피라미드 패턴형 마스터몰드의 복제과정 및 캐스팅 나이프를 이용한 MINs 분리막 제작과정
표 패턴형 PVDF 분리막을 제조하는 과정.
표 Fowkes theory
표 AAO 몰드를 이용한 폴리스티렌 몰드 제작 과정과 조건에 따른 원기둥 패턴 높이 조절.
표 수투수도를 평가하기 위한 스터드셀 장치.
표 인장강도 측정을 위한 Universal Texture Analyzer.
표 연속 십자흐름형 막여과 장치.
표 스핀코터를 이용한 MINs 코팅 방법.
표 캐스팅 나이프를 이용한 MINs 코팅 방법.
표 MINs 표면 코팅 분리막 성능 평가를 위한 십자흐름형 여과 장치.
표 MINs 표면 코팅 분리막의 MD 성능 평가를 위한 DCMD 장치.
표 폴리설폰막의 IPA 처리.
표 MPD 수용액에 함침.
표 표면 과잉 용액의 제거.
표 TMC-hexane 용액 도포를 통한 계면 중합.
표 평판형 패턴 MF 분리막 제조 과정.
표 상전이 공정 변화를 통한 고분자 밀집층 완화.
표 패턴 분리막의 패턴의 종류. a) 프리즘 패턴, b) 피라미드 패턴, c) 엠보싱 패턴.
표 패턴형 분리막 및 평판형 분리막의 투수도 비교.
표 프리즘 패턴형 분리막과 평판형 분리막에서의 미생물 침착 비교.
표 분리막 생물반응기에 적용한 패턴형 분리막의 성능평가.
표 대조군 분리막 및 평판형 마이크로패턴 MF 분리막에서의 입자의 부착 정도 비교.
표 a) 400 마이크로의 높이와 너비를 갖는 패턴 분리막의 파울링 이미지와 b) 패턴 크기에 따른 입자 직경 대비 패턴 너비 비.
표 레이놀즈 수에 따른 입자의 침착 정도 차이.
표 레이놀즈 수에 따라 달라지는 유속 변화의 계산 결과를 시각화한 모식도.
표 인터벌이 삽입된 두 종류의 평판형 마이크로패턴 MF 분리막의 입자 부착 평가.
표 다른 분자량을 갖는 고분자 용액(10 wt%)으로 제조된 분리막의 패턴 구현도.
표 다른 분자량을 갖는 고분자 용액(15 wt%)으로 제조된 분리막의 패턴 구현도.
표 패턴형 중공사 분리막 제조 과정.
표 PVDF 용액 농도의 변화에 따른 중공사막의 단면 구조.
표 PVDF 농도에 따른 단면의 거대기공 면적 비율.
표 다양한 비용매 주입 속도에 따른 중공사막의 단면 구조 변화.
표 비용매 주입 속도에 따른 단면 거대기공 비율.
표 패턴형 중공사막 및 비패턴형 중공사막.
표 패턴형 중공사막과 평판형 중공사 분리막의 수투수도.
표 용질크기에 따른 패턴형, 평판형 분리막에서의 제거율.
표 평판형 나노패턴 UF 분리막과 패턴이 없는 평판형 UF 분리막의 순수 투과 유속.
표 평판형, 나노 그리고 마이크로 패턴형 분리막에서의 다양한 크기의 입자들의 부착량.
표 입자와 패턴 크기에 따른 Rp값과 상대 입자 부착량.
표 Rp값에 따른 상대 입자 부착량.
표 폴리설폰 재질의 패턴 분리막의 SEM 이미지와 단면 모식도.
표 평판형 패턴 한외여과막 제조의 개선.
표 평판형 패턴 UF 분리막 제조의 개선.
표 Dioxane 함량과 MWCO 간 관계.
표 패턴형 역삼투막 제조 공정.
표 패턴형 역삼투막의 SEM 이미지.
표 패턴형 역삼투막의 수투수도 및 염제거율
표 에어 나이프와 실린지 펌프를 이용한 MPD 제거 시스템 모식도.
표 개선된 패턴형 역삼투막의 수투수도 및 염제거율.
표 GO 함량에 따른 미생물 부착 정도(CLSM).
표 GO 함량에 따른 (a) 수투수도 (b) 접촉각.
표 GO 함량에 따른 기공 분포의 변화.
표 GO 함량에 따른 고분자 용액의 점도 변화.
표 GO 함량에 따른 분리막 단면 구조의 변화.
표 GO 함량이 다른 분리막의 TMP profile.
표 그래핀 옥사이드 제조 과정.
표 제조시마다 다소 다른 GO 용액의 색상.
표 개선된 GO 용액 제조 방법 모식도.
표 분류된 GO의 a) SPM 이미지(하얀 점들), b) 크기 및 두께 측정 결과.
표 GO의 TEM 이미지.
표 분류된 GO의 크기별 a) 수 분율, b) 부피 분율.
표 그래핀 옥사이드 RO 분리막 제조 과정.
표 GO RO 분리막의 대표적인 표면 특성 측정 결과.
표 수투수도 및 염제거율 측정 방법 및 조건.
표 GO RO 분리막의 수투수도 및 염제거율.
표 미생물 부착 실험의 모식도.
표 a) 0, b) 15, c) 38, d) 76 ppm GO RO 분리막에 부착된 박테리아의 CLSM 이미지. e) 부착 박테리아의 바이오볼륨 그래프.
표 GO RO 분리막의 수투수도 및 염제거율.
표 CNS RO 분리막의 수투수도 및 염제거율.
표 CNS 크기 분포도 (사양서).
표 CNS 크기 분포도 (실측).
표 GO RO 및 CNS RO에서 물의 흐름 예상도.
표 활성층과 지지층에 첨가할 그래핀 옥사이드의 제조 방법.
표 GO-PSf 용액 제조.
표 그래핀 옥사이드 함유 RO 분리막의 종류.
표 지지층과 GO 함유 지지층의 접촉각과 표면 제타 전위.
표 지지층과 GO 함유 지지층의 평균 공극 크기와 평균 거칠기.
표 a) N 분리막, b) S 분리막, c) A 분리막, d) AS 분리막의 라만 스펙트럼.
표 N 분리막, S 분리막, A 분리막, AS 분리막의 a) 접촉각과 b) 표면 제타 전위.
표 N 분리막, S 분리막, A 분리막, AS 분리막의 평균 표면 거칠기.
표 A 분리막, AS 분리막의 SEM 이미지.
표 N 분리막, S 분리막, A 분리막, AS 분리막의 a) 수투수도 및 b) 염제거율.
표 152 ppm GO를 첨가한 AS 분리막의 수투수도와 염제거율과
표 a) N 분리막, b) S 분리막, c) A 분리막, d) AS 분리막 상에 생성된 바이오필름의 CLSM 이미지. A 분리막과 AS 분리막은 76 ppm GO가 첨가된 MPD 용액으로 제조함. 녹색 점들이 부착된 미생물을 나타냄.
표 N 분리막, S 분리막, A 분리막, AS 분리막 상에 부착된 미생물의 생물부피 (n=9).
표 16 시간의 5000 ppm NaOCl 염소처리 전후의 N 분리막, S 분리막, A 분리막, AS 분리막의 a) 수투수도 및 b) 염제거율(n=3). 굵은 선으로 표시된 값이 염소처리 이후의 수투수도 및 염제거율. A 분리막과 AS 분리막은 76 ppm GO가 첨가된 MPD 용액으로 제조함.
표 RO 분리막 제조 물질의 제조 단가 (250 ml 용액 기준).
표 계면 중합에 사용된 지지층의 표면 기공 크기 변화에 따른 활성층의 두께 변화.
표 계면중합시 MPD의 확산 과정.
표 지지층 기공 크기 변화에 따른 활성층의 거칠기 변화.
표 지지층 기공 크기 변화에 따른 활성층의 가교율 변화.
표 지지층 기공 크기 변화에 따른 활성층의 a) 접촉각과 b) FTIR 스펙트럼.
표 지지층 기공 크기 변화에 따른 RO 분리막의 a) 수투수도와 b) 염제거율의 변화
표 서로 다른 기공 구조를 갖는 세 종류의 지지층.
표 (a) 서로 다른 세 종류의 복합박막의 수투수도와 염제거율, (b) 서로 다른 세 종류의
표 (a) 지지층의 기공 크기, (b) 지지층의 표면 기공도, (c) 활성층의 두께, (d) 활성층의 거칠기, (e) 활성층의 가교율을 간접적으로 보여주는 질소/산소의 비율.
표 실험적으로 도출된 지지층의 기공 크기와 표면 기공도에 근거하여 도출한 지지층의 기공간 거리. 계산의 편의를 위해 정사방형 배열을 가정하였음.
표 각각의 복합박막의 유효 확산 거리.
표 역삼투 및 정삼투 공정을 통해 도출된 값들과 지지층들의 특성을 나타내는 데이터들.
표 a), b), c)는 각각 20, 22.5, 25 wt% 지지층의 3차원 이미지에 해당함. d),e), f)는 각각 20, 22.5, 25 wt% 샘플의 바닥면의 단층 이미지에 해당함. g)와 h)는 각각 깊이에 따른 sponge-like region의 비율과 평균 sponge-like region의 비율을 나타냄.
표 지지층에서의 sponge-like region의 비율이 유의미하게 커질 경우 발생될 수 있는 활성층에서의 확산 경로 변화와 그로 인한 역삼투막의 수투수도 변화를 보여주는 개념도.
표 지지층 제조에 사용되는 고분자 용액의 농도에 따른 기계적 강도.
표 두께가 조절된 그래핀 옥사이드의 Scanning Probe Microscope (SPM) 이미지.
표 GO 첨가량에 따른 (a) 인장강도, (b) 탄성계수. (c) GO 두께에 따른 제타전위.
표 TFC-10 분리막과 TFC-1-GO 분리막의 (a) 표면 거칠기와 (b) 가교율, (c) 활성층 두께.
표 TFC-1-GO 분리막과 다른 RO 분리막들의 성능 비교. (n=5)
표 48시간 동안 측정된 a) 수투수도와 b) 염제거율.
표 스핀코터의 rpm에 따른 MINs 필름의 두께변화.
표 분당 회전속도에 따른 제작 가능 면적.
표 MF용 분리막 제조를 위한 초기 마스터몰드.
표 MF용 분리막 제조를 위한 원기둥 형 패턴의 마스터몰드
표 MF용 분리막 제조를 위한 피라미드 형 패턴의 마스터몰드
표 스핀 속도 (rpm)에 따른 막세공 크기 변화 (a), (b) 2500 rpm, (c), (d) 2100 rpm, (e), (f) 1850 rpm.
표 패턴형 등방공경 MINs MF 분리막 SEM 이미지 (a) 분리막 표면 (75배율), (b)분리막 표면 (1,000 배율), (c) 분리막 단면, (d) 분리막 밑면
표 MINs 분리막의 세공 크기 분포
표 다양한 세공 크기의 MF용 MINs 등방공경 분리막.
표 0.5 ㎛ 이하의 세공을 갖는 MINs 분리막.
표 본 연구에서 제조한 MF용 MINs 등방공경 분리막과 상업화된 트랙 에치 분리막의 세공 비교 SEM 이미지 (붉은 색 부분이 막세공).
표 트랙-에치 분리막과 비교한 MINs 등방공경 분리막의 세공 크기
표 트랙 에치 분리막과 비교한 MINs 등방공경 분리막의 공극률
표 트랙 에치 분리막과 MINs 등방공경 분리막의 (a) 접촉각, (b) 표면에너지, (c) 제타전위.
표 분리막의 SEM 이미지.
표 캐스팅 나이프의 높이에 따른 MINs 등방공경 분리막의 세공 크기 및 공극률
표 패턴형 PVDF 분리막 (a) 피라미드형 (b) 역피라미드형 (c) 그리고 45도 회전한 피라미드형.
표 초기 제작한 (a) AAO 마스터 몰드와 (b) 폴리스티렌 복제 몰드.
표 AAO 몰드로 압력을 가해 제작한 폴리스티렌 복제 몰드 SEM 이미지.
표 압력을 가해 제작한 폴리스티렌 몰드의 문제점.
표 Tg이하의 온도까지 식히기 전에 AAO 몰드를 제거한 폴리스티렌 몰드.
표 패턴이 형상화된 감광재 코팅.
표 패턴이 형상화된 감광재 코팅을 이용하여 제작한 폴리스티렌 몰드의 SEM 이미지.
표 폴리스티렌 몰드를 바탕으로 제작한 MINs 마스터 몰드.
표 패턴형 몰드의 SEM 이미지 (a) 나노패턴형 AAO 몰드 (b) 마이크로 패턴형 MINs 몰드
표 나노 패턴이 형성된 UF급 등방공경 MINs 분리막.
표 AFM으로 분석한 UF 분리막 표면 (a) 무패턴, (b) 나노패턴, (c) 마이크로 패턴
표 UF 분리막의 세공 크기.
표 십자흐름 유속 0.54 m/s에서의 연속 여과 실험 후 분리막 표면 SEM 이미지.
표 2 ㎛ 구형 입자를 이용한 십자흐름형 여과 후의 입자 침적 SEM 이미지
표 5 ㎛ 구형 입자를 이용한 십자흐름형 여과 후의 입자 침적 SEM 이미지
표 2와 5 ㎛ 구형 입자를 이용한 십자흐름형 여과 후의 입자 침적 SEM 이미지
표 2차원 CFD로 분석한 역피라미드 패턴형 분리막 표면에서 형성되는 유체흐름의 형태.
표 3차원 CFD를 수행하기 위한 패턴 분리막 표면 부근의 유체 형태 및 계산 포인트들.
표 3차원 CFD 분석을 통한 패턴 분리막 표면 부근의 유체 흐름의 예.
표 3차원 CFD로 분석한 역피라미드 패턴형 분리막 표면에서 형성되는 유체흐름의 형태.
표 압력에 따른 투수도/공극률 비교
표 각 분리막 수투수도 비교 (5 kPa).
표 모델 입자 (0.3과 1.1 ㎛)를 이용한 MINs 분리막 입자 제거 평가 SEM 이미지
표 MINs 분리막과 트랙-에치 분리막의 인장강도실험 수행 결과.
표 트랙-에치 분리막과 MINs 분리막의 미생물 부착성장실험 후 CLSM 이미지.
표 각 분리막 표면에 침적된 입자의 상대적인 양을 광학밀도 (300 nm)로 측정한 결과와 이를 막표면에 침적된 입자의 양으로 환산한 값 비교.
표 실제 지표수(호소수)를 이용한 45피라미드 패턴형 PVDF 분리막의 막오염 평가 시 수투과도 비교.
표 패턴형 PVDF 분리막으로 제작한 수처리용 침지형 모듈.
표 UF분리막의 상대 표면면적과 고유 수투수도
표 UF 분리막 표면에 침착된 구형 입자의 SEM 이미지
표 입자크기/패턴크기(rs)에 따른 UF 분리막 표면에의 상대적인 입자 침적량
표 (a) 무패턴, (b) 나노패턴, (c) 마이크로 패턴 UF 분리막 표면에서의 CFD 분석을 위한 도메인.
표 CFD로 계산한 UF 분리막 표면에서의 전단응력
표 나노 패턴 UF 분리막 표면에서의 전단 응력 비교.
표 개발한 MINs 재질 분리막의 성능 및 개선해야할 사항.
표 상용막인 (a) PA (0.45 ㎛) (b) PES (0.8 ㎛)를 이용하여 만든 MINs 코팅 분리막의 MINs:에탄올 희석비율에 따른 수투과도.
표 SEM 이미지 (a) MINs 코팅되지 않은 PVDF 분리막, (b) MINs 코팅된 PVDF 분리막.
표 SEM 이미지 (a) MINs 코팅되지 않은 PES 분리막, (b) MINs 코팅된 PES 분리막.
표 (a)점도 18.7 cP의 MINs (b)점도 2.1 cP의 MINs (c)점도 1.6 cP의 MINs (d) 점도 1.3 cP의 MINs 를 각각 이용하였을 때의 MINs 코팅 분리막.
표 (a) MINs 코팅 없는 분리막, (b)점도 2.1 cP의 MINs, (c)점도 1.6 cP의 MINs, (d) 점도 1.3 cP의 MINs 코팅 분리막.
표 MINs 용액 희석배율 (3, 5, 10배)에 따른 MINs 코팅 분리막 표면 거칠기 변화.
표 AFM 이미지 (a) MINs 코팅 없는 분리막, (b)점도 2.1 cP의 MINs, (c)점도 1.6 cP의 MINs, (d) 점도 1.3 cP의 MINs 코팅 분리막.
표 미생물 부착 특성 (a) MINs 코팅 없는 분리막, (b)점도 2.1 cP의 MINs, (c)점도 1.6 cP의 MINs, (d) 점도 1.3 cP의 MINs 코팅 분리막.
표 (a) 조제원수 (b)실제원수를 원수로 하였을 때의 저항값 변화.
표 (a) Control PA (b) PA-MINs (c) Control PES (d) PES-MINs (e) PA-방수코팅제 (f) PES-방수코팅제.
표 PVDF 분리막에 MINs를 (a) 3배 (b) 6배 희석하여 코팅한 막의 플럭스와 전기전도도.
표 방수코팅제를 이용한 코팅분리막와 소수성 MINs 코팅분리막의 DCMD 플럭스 데이터.
표 기수조건 (2,000 mg/L NaCl)에서의 GO/CNT 나노복합막의 투과수량, 염제거율 변화
표 해수조건 (35,000 mg/L NaCl)에서 GO/CNT 나노복합막의 투과수량, 염제거율 5차년도, 6차년도 결과
표 해수조건 (35,000 mg/L NaCl)에서 PA막, GO/CNT 나노복합막, 최적화된 GO/CNT 나노복합막, 기수용 상용막, 해수용 상용막의 투과수량과 염제거율.
표 나노물질 첨가가 투과수량에 미치는 영향
표 Plaine PA막의 내염소성 평가.
표 LFC1 막의 내염소성 평가.
표 PA-GO막 (0.005 wt%)의 내염소성 평가.
표 PA-CNT막 (0.005 wt%)의 내염소성 평가.
표 PA-CNT/GO막 (0.005 wt%)의 내염소성 평가.
표 PA-CNT/GO막 (0.02 wt%)의 내염소성 평가.
표 고분자 막의 TGA 거동.
표 활성염소 노출 시간에 따른 라디칼 농도 변화.
표 실험실에서 제조된 폴리설폰 지지층.
표 GOT의 합성 분석.
표 수처리막과 접촉한 후 활성 미생물의 농도.
표 PA-T (0.005 wt%) 막의 내염소성 평가.
표 PA-T (0.005 wt%) 막의 내염소성 평가.
표 암모늄하이드록사이드 첨가량에 따라 2.0 mL의 TiO2가 코팅된 막의 투과수량 변화.
표 암모늄하이드록사이드의 첨가량이 2.0 mL TiO2가 코팅된 막의 코팅층 내구성에 미치는 영향.
표 TiO2 nanoparticle 코팅량에 따른 폴리아마이드 복합막의 투과수량과 염제거율 변화.
표 TiO2코팅량에 따른 폴리아마이드 복합막의 표면 변화
표 EDS를 이용한 표면 성분 분석과 EDS mapping 결과.
표 TiO2 nanoparticle 코팅한 막의 표면 접촉각과 제타포텐셜 측정 결과.
표 2.0 mL의 TiO2 sol이 코팅된 막과 bare PA막의 humic acid 오염 특성 비교.
표 E-beam evaporation을 통하여 실리콘 위에 형성된 금속 박막과 각 금속박막을 이용하여 식각된 실리콘의 모습.
표 Au, Ag/Au bilayer의 DI water base 식각용액을 통한 식각 양상과, Ag/Au bilayer의 Ethanol base 식각용액을 통한 식각 양상의 비교.
표 Ag/Au bilayer와 Et-base 식각용액을 이용하여 형성된 다양한 size와 shape의 실리콘 구조.
표 PDMS를 이용한 상분리 과정.
표 (a) PDMS에 의해 생성된 다공성 구조, (b) oligomer를 제거한 PDMS를 사용한 결과, (c) oligomer를 고분자 용액에 첨가한 결과, (d) 고온(80ºC)에서의 결과.
표 고분자 용액의 상평형 그래프.
표 제작된 광확산 필름 결과.
표 계층화 buckling된 PDMS 표면.
표 buckling 된 PDMS를 이용해 buckling된 표면과 다공성 구조를 가지는 고분자 필름 제작 과정.
표 최종적으로 형성된 고분자막 단면에 존재하는 미세기공들의 SEM 이미지
표 분리막 모듈 내의 유체 거동 해석을 위한 도메인 설정.
표 유입 속도에 따른 와류 영역의 크기 변화
표 패턴형 분리막 주변에서의 전단 응력(shear stress)의 분포.
표 국부 전단 응력(local shear stress)의 측정 영역 및 유속에 따른 변화 양상.
표 유입 유속 및 패턴의 크기에 따른 전단 응력의 변화 양상 비교.
표 패턴형 분리막에서의 와류 영역 발달.
표 패턴의 크기에 따른 와류 영역 발달.
표 나노 및 마이크로 패턴에 대한 유동 해석 및 막 오염 양상 해석.
표 인터벌의 존재 유무에 따른 유동 발달 경향.
표 정상 상태에서의 유속과 유선
표 패턴형 분리막 상에서의 x방향 속도 및 표면 패턴과 인접한 부근에서의 유선.
표 패턴형 분리막에서 직접 풀이법(direct simulation)을 활용한 문제 정의.
표 유체-입자 간 상호작용(hydrodynamic interaction)을 고려한 부유 입자의 이동 해석.
표 투수 속도의 차이에 따른 유동장 변화.
표 투수 속도의 차이에 따른 입자 적층 양상의 변화.
표 시간에 따른 부유 입자의 적층 양상
표 시간에 따른 부유 입자의 적층 양상.
표 관성을 갖는 두 입자 간의 충돌 모습(A)과 두 입자의 궤적(B) 및 속도(C).
표 스프링 힘에 의해 상호작용하는 두 부유 입자의 이동 모습.
표 케이크 층의 형성을 고려하는 부유물 적층 알고리즘 개요.
표 케이크 층의 형성으로 인한 경계면 및 투수속도의 변화.
표 교차 흐름 입자 적층(cross-flow particle deposition) 시뮬레이션에의 적용.
표 부유물의 적층에 따라 유동장이 변화하기 전(왼쪽)과 변화된 후(오른쪽)의 모습.
표 분리막 막오염 양상의 확인을 위한 모델 시스템 구성.
표 교차형 흐름기 실험 후의 상 하단부에서의 입자 적층 양상 : (a) 10분 후, (b) 30분 후.
표 실시간 막오염 확인을 위한 실험 장비의 제작.
표 슬러지를 이용한 부유 입자 적층 실험 결과.
표 MINs 분리막에서의 유동 해석 및 입자 거동 예측 결과.
표 MINs 분리막의 운전 조건에 따른 입자의 적층 양상.
표 Wessling 그룹의 중공사형 패턴 분리막.
표 우수 포스터 발표 인증서.
표 본 연구는 Journal of material chemistry A의 Issue 44(2015)의 뒤표지 커버로 소개됨.
표 그래핀 옥사이드 함유 RO 분리막 논문의 다운로드 건수의 추세별 경향.
표 패턴형 분리막의 모양과 크기.
표 임계 수투수도의 정의.
표 패턴 방향에 따른 임계 수투수도.
표 수증기 노출 시간에 따른 분리막의 밀도.
표 압인법을 이용한 패턴 UF 분리막 제조
표 a) 지지층용 패턴 UF 분리막과 b) 패턴 NF/RO 분리막의 SEM 이미지, c) 패턴 NF/RO 분리막의 모식도와 패턴 크기.

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