초록

• CVD 그래핀 합성, 구조분석 및 양자홀저항 소자 제작 및 특성 분석
• CVD 그래핀/(CVD) BN 이종접합 그래핀 양자홀 저항 소자제작 및 특성 분석
• 고분자 기반의 패턴화 된 CVD 그래핀 합성, 구조분석, 양자홀 저항 소자 제작 및 특성 분석
• Epitaxial 그래핀 양자홀 저항 소자 특성 분석 및 양자홀 효과 정밀측정
• 고온/저자기장 (4 K/6 T) 그래핀 양자홀 저항소자 개발

(출처 : 보고서 요약서 3p)

Abstract ▼

Ⅳ. Results
• Synthesis of CVD graphene, structural analysis, fabrication of quantum Hall resistance device and property analysis.
• Fabrication of CVD graphene/(CVD) BN quantum Hall resistance device and property analysis.
• Synthesis of polymer-based patterned CVD graphene, structural anal

Ⅳ. Results
• Synthesis of CVD graphene, structural analysis, fabrication of quantum Hall resistance device and property analysis.
• Fabrication of CVD graphene/(CVD) BN quantum Hall resistance device and property analysis.
• Synthesis of polymer-based patterned CVD graphene, structural analysis, fabrication of quantum Hall resistance device and property analysis.
• Analysis of epitaxial graphene quantum Hall resistance device and precision measurement of quantum Hall resistance value.
• Development of high temperature/low-magnetic field (4 K/6 T) graphene quantum Hall device.

(출처 : SUMMARY 7p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 보고서 요약서 ... 3
• 요 약 문 ... 4
• SUMMARY ... 7
• CONTENTS ... 10
• 목차 ... 12
• 제1장 연구개발 과제의 개요 ... 14
• 제1절 연구개발의 목적 ... 14
• 제2절 연구개발의 필요성 및 범위 ... 16
• 1. 연구개발의 필요성 ... 16
• 2. 연구개발의 내용 및 범위 ... 17
• 제2장 국내외 기술개발 현황 ... 19
• 제1절 국외 기술개발 현황 ... 19
• 1. 그래핀 성장 현황 ... 19
• 2. 그래핀 양자 홀 저항소자 개발현황 ... 23
• 3. 그래핀 양자홀 저항 정밀측정 현황 ... 25
• 제2절 국내 기술개발 현황 ... 26
• 1. 그래핀 성장 ... 26
• 2. 그래핀 양자홀 저항소자 개발 현황 ... 28
• 3. 양자홀 저항 정밀측정 현황 ... 29
• 제3장 연구개발 수행 내용 ... 32
• 제1절 CVD 그래핀 ... 32
• 1. 물질합성 및 구조분석 ... 32
• 2. 양자홀 소자 제작 및 특성 분석 ... 41
• 제2절 CVD 그래핀/(CVD) BN 이종접합 구조체 ... 43
• 1. CVD BN 합성 및 구조 분석 ... 43
• 2. CVD 그래핀/BN Hall 소자 제작 및 특성 분석 ... 49
• 3. CVD 그래핀/CVD BN Hall 소자 제작 및 특성 분석 ... 53
• 제3절 고분자 기반 패턴화 된 CVD 그래핀 ... 55
• 1. 물질합성 및 성장 메커니즘 ... 55
• 2. 구조 분석 ... 58
• 3. 양자홀 소자 제작 및 특성 분석 ... 60
• 제4절 Epitaxial 그래핀 양자홀 저항소자 정밀측정 ... 62
• 1. Epitaxial 그래핀 성장 및 구조분석 ... 62
• 2. 그래핀 양자홀 소자의 전하밀도 조절 ... 67
• 3. 그래핀 양자홀소자의 자기저항 특성 분석 ... 69
• 4. 그래핀 양자홀 효과 정밀측정 ... 70
• 5. 양자홀 소자 어레이 자기저항 특성 분석 ... 73
• 제4장 목표달성도 및 관련 분야에의 기여도 ... 75
• 제1절 목표달성도 ... 75
• 1. 1 차년도 목표달성도 ... 75
• 2. 2 차년도 목표달성도 ... 76
• 3. 3 차년도 목표달성도 ... 78
• 제2절 관련분야의 기술발전에의 기여도 ... 79
• 1. 패턴공정 없는 그래핀 성장 ... 79
• 2. 액정을 이용한 2차원 물질의 구조 분석 ... 79
• 3. 양자홀 저항 표준 ... 80
• 제5장 연구개발결과의 활용계획 ... 81
• 제6장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 83
• 제7장 연구시설·장비도입 현황 ... 84
• 제 1 절 Hot-wall reactor 제작 및 설치 ... 84
• 제 2 절 SiC 그래핀 성장 과정 ... 84
• 제8장 참고문헌 ... 86
• 부록 ... 89
• 부록 1. 액정을 이용한 그래핀 방향의 결정과 그래핀의 질 평가 가능성 연구 ... 89
• 부록 2. EU 측 연구내용 및 역할분담과 연구성과 기여도 ... 104
• 끝페이지 ... 124