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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기초과학지원연구원 Korea Basic Science Institute |
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연구책임자 | 김종필 |
참여연구자 | 정의덕 , 최윤주 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2018-01 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO201800009887 |
DB 구축일자 | 2018-05-12 |
키워드 | 도금.반도체 검사칩.리튬이차전지전극.산화그래핀.양이온 흡착.Plating.Semiconductor inspection Chip.Lithium secondary battery electrode.Graphene oxide.Cation adsorption method. |
연구의 목적 및 내용
∙도금 산업에서 요구되는 양질의 도금 층 확보와 도금 효율 공정 개선을 위하여 도금 전·후의 공정별 수세조로 유입되는 수세액의 오염 최소화와 폐수의 유입에 따른 기존의 공정 오류를 최소화 하여 일관적인 생산 품질을 확보 하므로서 기업경쟁력 확보.
∙수요업체에서 요구하는 양질의 제품을 생산하고, 도금 산업의 경쟁력을 확보하기 위하여
- 도금 전·후의 세척, 수세액 오염 최소화를 위하여 수세조별 수위차를 조절하고 그에 따른 도금 전·후의 제품의 표면 분석을 통하여 공정 조건 확립.
- 세척공정
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