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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)듀라소닉 |
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연구책임자 | 이희명 |
참여연구자 | 김정인 , 서동원 , 황봉길 , 김정영 , 천승철 , 조경목 , 김정호 , 박희진 , 최우석 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2012-07 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201800012969 |
과제고유번호 | 1425061351 |
사업명 | 중소기업기술혁신개발 |
DB 구축일자 | 2018-12-01 |
키워드 | 표면식각.고속에칭.손상.균일표면. |
□ 개발목표
- 계획 :
▷ 1차년도 개발 목표
◦ 에칭 실험조 제작
· 세정 및 에칭을 위한 Unit제작
◦ 에칭의 최적 공정의 연구
· 고속/균일 에칭을 위한 초음파 영향성 연구
· 약액의 최적화 연구
◦ 공정별(세정-에칭-린스-건조공정) Unit의 구조 최적화 연구
▷ 2차년도 개발 목표
◦ 시작품 제작
· 장치의 Layout 설계
· Wafer 고속이송 기술 적용
· Isolation 구간(Etching부)의 안 전성 설계
· 이중 인터록의 전용 프
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