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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전기연구원 Korea Electrotechnology Research Institute |
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연구책임자 | 김두헌 |
참여연구자 | 이동윤 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2017-12 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO201800022196 |
DB 구축일자 | 2018-06-16 |
키워드 | 임플란트.전기화학.표면처리. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201800022196 |
최종목표
○ 임플란트 표면처리 신공정기술 개발
개발내용 및 결과
○ 기존의 임플란트 표면처리 공정기술에 한국전기연구원이 보유하고 있는 전기화학적 초미세 금속표면 가공기술을 접목하여 생체금속의 성능 극대화 및 공정개선.
기술개발 배경
○ 기존의 표면처리 방식과는 차별화된 표면처리 방식 필요
- 기존의 표면처리법에 비해 높은 생산성과 낮은 생산단가, 생물학적 유해요인이 최소화된 표면처리법의 개발 필요
○ 전기화학적인 표면처리 방식은 정밀한 표면처리 방식으로 실제 생산공정에 적용을 위
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