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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전기연구원 Korea Electrotechnology Research Institute |
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연구책임자 | 김두헌 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-12 |
과제시작연도 | 2021 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202200008331 |
과제고유번호 | 1711141081 |
사업명 | 한국전기연구원연구운영비지원(R&D)(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2022-08-13 |
키워드 | 전기화학.표면처리.치과용 임플란트.Electrochemistry.Nano surface treatment.Dental implant. |
연구개발 목표 및 내용
최종 목표
- 전기화학 방식을 적용한 나노 표면처리 기술 개발
- 나노기술을 적용한 치과용 임플란트 제품화
전체 내용
- 자연 치아의 치근에 해당하는 임플란트 표면에 150~200nm 크기의 나노 딤플과 약 10nm 기공을 형성시키는 나노 표면처리 방식개발
- 기존 임플란트 표면처리에 적용된 산에칭 방식(SLA)은 강산인 염산과 황산용액의 일정비율로 혼합하여 90℃로 가열된 상태에서 이루어지는 공법이지만, 전기화학적 나노표면처리 방식은 산 용액을 배제한 알코올계 전해액을 사용하
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