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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한양대학교 HanYang University |
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연구책임자 | 이승백 |
참여연구자 | 설원제 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-08 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202000001390 |
과제고유번호 | 1711092751 |
사업명 | 나노·소재기술개발(R&D) |
DB 구축일자 | 2020-07-29 |
키워드 | 2차원.나노패터닝.박막트랜지스터.유연기판.황화주석.2-dimensional.Nanopatterning.Thin-Film Transistor.Flexible substrate.SnS2. |
본 연구는 저온에서 제작 가능한 2차원 소재를 이용한 대면적 소자 및 응용소자의 기술 개발과 평가를 목표로 함.
1. 원자층 증착법을 이용하여 4인치급 대면적 저온공정 확보 및 저 불순물 2차원 박막 소재를 확보
2. hBN을 이용여 2차원 소재를 외부 환경으로부터 보호 하며 우수한 계면 특성으로 소자 특성을 개선
3. SnS2, graphene, hBN을 각각 channel, floating gate, tunnel/block barrier로 활용하여 NAND Flash memory 제작 및 특성 평가를 통해 이중접
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