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NTIS 바로가기주관연구기관 | 연세대학교 Yonsei University |
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연구책임자 | 김형준 |
참여연구자 | 김동현 , 김영준 |
보고서유형 | 연차보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-12 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202000008482 |
과제고유번호 | 1711101813 |
사업명 | 연구산업육성(R&D) |
DB 구축일자 | 2020-07-29 |
키워드 | 이차원 소재.전이금속 황화물.플라즈마 원자층 증착법.플라즈마 기반 황화.Two-dimensional material.Transition metal dichalcogenides.Plasma enhanced atomic layer deposition.Plasma based Sulfurization. |
미래 반도체 소재인 이차원 전이금속 황화물(TMDCs, Transition Metal Dichalcogenides) 합성 장비의 상용화를 위해, 기보유한 특허를 바탕으로 한 전이금속 산화물의 플라즈마 원자층 증착(PE-ALD, Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) 과 플라즈마 기반 황화(Sulfurization) 공정을 1 대의 장비에서 진행하는 플라즈마 기반 TMDCs 합성 연구 장비를 구현하고자 함. 플라즈마 기반 TMDCs 합성장비를 통한 공정을 기술이전 하여, 수요기업의 사업화 비용 및 리
Ⅰ. Research Purpose
Based on the existing patents, technical transfer and research will be carried out for the process development of the plasma enhancement atomic layer depostion (PE-ALD) transition metal oxide and plasma based sulfurization. The process for plasma based transition metal dichalc
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