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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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연구책임자 | 김광영 |
참여연구자 | 홍호연 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-08 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100008209 |
과제고유번호 | 1711100982 |
사업명 | 한국생산기술연구원연구운영비지원(R&D)(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2021-08-07 |
키워드 | 저밀도 파장 분활 다중화.광도파로.증착.식각.노광.CWDM.PLC.deposition.etching.photo-lithography. |
□ 기업의 애로사항
ㅇ Metal layer Deposition 기술
ㅇ Patterning 공정 인 Photo_Litho 기술
ㅇ Core Etching 기술
□ 지원(해결) 내용
ㅇ 크롬 증착 및 식각
• 웨이퍼간 크롬 두께 정확도 확립 (Uniformity 확립)
• Selectivity(선택비) 확립_Core 식각 시 버티는 정도의 조건 확립
- PR과 Cr박막간의 선택비 확보
- Cr Etch Rate개선
- Etch uniformity
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