최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 인하대학교 InHa University |
---|---|
연구책임자 | 정지원 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-06 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202100014094 |
과제고유번호 | 1345313361 |
사업명 | 개인기초연구(교육부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2021-09-18 |
키워드 | 나노미터 패터닝.나노미터 스케일 식각.에어로졸 젯 식각.고밀도플라즈마반응성이온 식각.고이방성 식각.반도체 메모리 소자.디스플레이 소자. |
□ 연구개요
본 연구는 현존하는 메모리소자를 포함하여 차세대 반도체 메모리소자, MEMs(NEMs) 소자 및 각종 박막센서들의 개발에 필요한 나노미터스케일의 극미세 패턴의 형성을 위하여 새로운 나노식각공정을 개발하여 극미세패턴들을 형성하고자 하는 연구이며, 메모리소자들의 중요한 두 구성요소인 metal oxide semiconductor field effect transistor (MOSFET)와 capacitor의 극미세 나노미터패턴의 형성을 위한 식각공정을 개발하는 것이 그 중요한 예이다. 그 외에 본 연구의 핵심기술은 단
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.