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NTIS 바로가기주관연구기관 | 아주대학교 Ajou University |
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연구책임자 | 김창구 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-03 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202100016805 |
과제고유번호 | 1711115288 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-01-29 |
키워드 | 플라즈마 식각.다중순환.직경감소.비등방성.고종횡비.Plasma etching.Multi-cyclic.Diameter reduction.Anisotropy.High aspect ratio. |
□ 연구개요
ㅇ 이 연구에서는 기존 광학적 노광의 한계를 극복할 수 있는 신개념의 다중순환 플라즈마 식각 기술을 개발하고, 이를 바탕으로 플라즈마 식각만으로 콘택홀(Contact Hole), Trench, Via 등 다양한 미세패턴의 최소선폭을 감소시킬 수 있는 기술 확보를 목적으로 함.
ㅇ 다중순환 플라즈마 식각은 기존의 플라즈마 식각만으로 콘택홀의 직경을 감소시키는 동시에 고종횡비 비등방성 식각형상을 구현할 수 있으므로 공정이 간단하고 비용 절감이 가능하며 다양한 소자제조공정에 적용 가능.
ㅇ 다중순환 플라즈마
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