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고열전도도 입방정 질화붕소의 저압/저온 합성 공정 및 방열 소자 개발
Development of low pressure/temperature synthesis process of high thermal conductive cubic boron nitride and application as heat dissipation material 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 성균관대학교
SungKyunKwan University
연구책임자 황동목
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2020-11
과제시작연도 2020
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202100015613
과제고유번호 1711119869
사업명 나노미래소재원천기술개발(R&D)
DB 구축일자 2021-10-30
키워드 질화 붕소.입방정계.에피텍셜 성장.촉매 성장.다형성 상변환.Boron nitride.Cubic system.Epitaxial growth.Catalytic growth.Polymorphic transformation.

초록

□연구의 목적 및 내용
소자의 고집적화에 따라 열에 의한 성능/수명저하 문제가 심각함. 특히 5G용 전자기기 및 초고집적 반도체 등 차세대 전자기기/부품에서는 현재 사용되는 방열 소재의 한계를 뛰어넘는 소재 적용이 필수적임. 이를 위해 다양한 소재가 연구되고 있으나 열적 비등방성, 고비용 등의 문제를 가지고 있음. 본 연구에서는 이를 극복하고자 촉매를 이용하여 등방성의 고열전도도(단일 소재 700W/mK, 방열 패드 적용 시 30W/mK 이상)를 가지는 입방정 질화 붕소(cBN)의 양상적용 가능 저온/저압 합성 공정을 개발하려

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 제 출 문 ... 2
  • 보고서 요약서 ... 3
  • 목차 ... 5
  • 1. 연구 개발 과제의 개요 ... 6
  • 가. cBN의 특성 ... 6
  • 나. 방열소재로의 응용 ... 6
  • 2. 연구수행내용 및 성과 ... 13
  • 가. 원천 기술 확보를 위한 특허 선행 조사 ... 13
  • 나. 타 특허 대비 본 연구의 차별점 ... 20
  • 다. 선기획 과제 수행 결과 ... 22
  • 라. 산업화 가능성에 대한 평가 ... 58
  • 3. 목표 달성도 및 관련 분야 기여도 ... 63
  • 가. 목표 ... 63
  • 나. 목표 달성여부 ... 63
  • 다. 목표 미달성 시 원인(사유) 및 차후대책 ... 63
  • 4. 연구 결과 활용 방안 및 기대효과 ... 63
  • 1) 연구개발 결과의 활용 방안 ... 63
  • 2) 기대 효과 ... 64
  • 3) 국내외 네트워크 형성 ... 65
  • 붙임. 참고문헌 ... 68
  • 끝페이지 ... 68

표/그림 (37)

참고문헌 (25)

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