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반도체 공정장비 Dielectric Window용 내플라즈마성 고품질 이트리아 후막코팅 개발
Development of High Quality Thick Yttria Films for Dielectric Window of Semiconductor Processing Equipment 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국재료연구원
Korea Institute of Materials Science
연구책임자 박동수
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2021-11
과제시작연도 2021
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202200000116
과제고유번호 1711139409
사업명 재료연구소연구운영비지원(R&D)(주요사업비)
DB 구축일자 2022-05-14
키워드 상온진공과립분사.이트리아.코팅.대면적.내플라즈마.Granule Spray in Vacuum.Yttria.Coating.Large area.Plasma resistance.

초록 ▼

Ⅳ. 연구개발결과
- Hv50g >9 GPa의 고경도 이트리아 코팅 개발
- 플라즈마 용사 이트리아 코팅 대비 CF4-O2-Ar 플라즈마 저항성이 2.5배 이상의 이트리아 코팅 개발
- 크리 20nm 이하의 결정립으로 이루어진 치밀한 이트리아 코팅 개발
- 대면적 코팅 장치 및 기술을 개발하여 직경 558mm의 Dielectric Window 표면에 >15 μm 두께의 시제품 이트리아 코팅 개발
- 상기 대면적 코팅에 있어서 순수 코팅시간 25.5

Abstract ▼

Ⅳ. Results
- Deveopment of highly dense nano-structured (grain size <20nm) yttria coating with Hv50g >9 GPa
- Development of yttria coating with X2.5 resistance to CF4-O2-Ar plasma when compared with plasma spray yttria coating
- Development of a large area

표/그림 (19)

참고문헌 (25)

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