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NTIS 바로가기주관연구기관 | 성균관대학교 SungKyunKwan University |
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연구책임자 | 채희엽 |
참여연구자 | 권광호 , 최창환 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-07 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO202200005534 |
과제고유번호 | 1711115849 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-07-30 |
키워드 | 건식세정.초미세패턴 세정.플라즈마.순환공정.고종횡비. |
3. 개발결과 요약
□ 최종목표
실리콘, 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막의 초미세패턴에서의 유기 및 무기 오염원과 식각 잔류물의 제거에 대응 가능한 순환형 플라즈마 건식세정 공정(Cyclic plasma dry cleaning process) 원천 기술 개발
□ 개발내용 및 결과
플라즈마 세정 공정을 통해 초미세 패턴에서의 건식 세정 기술 확보.
□ 기술개발 배경
10nm급 이하의 반도체 디자인 룰의 미세화에 대응하기 위해 기존과 다른 저손상, 무손상 세정기술을 개발하고자 함.
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