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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한경대학교 |
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연구책임자 | 백승재 |
참여연구자 | 오훈정 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-07 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
과제관리전문기관 | 한국산업기술평가관리원 Korea Evaluation Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO202200006236 |
과제고유번호 | 1711092911 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-08-19 |
키워드 | 상압 플라즈마.저온 고속 증착.다결정 실리콘.에피택시. |
3. 개발결과 요약
□ 최종목표
● 상압 플라즈마를 이용한 증착속도 0.5mm/min 이상인 고속 증착 Si 에피택시 박막의 600℃ 이하 저온 형성 공정 수립.
● 결함 밀도가 106 cm-2 이하인 고품질 상압 플라즈마 Si 에피 택시 박막 공정 수립.
● SiOx, SiNx 대비 100% 의 선택비를 갖는 결함밀도 106 ea/cm2 이하의 상압 플라즈마 고품질 Si 선택적 에피택시 박막
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