초록 ▼

3. 개발결과 요약
□ 최종목표
반도체 및 디스플레이 제조 공정 상태의 실시간 모니터링이 가능한 공정 가스 및 미세 오염 입자 정량측정 광학 측정 및 진단 시스템 개발 및 사업화

□ 개발내용 및 결과
• 배출공정 가스에 대한 0.2~5.0 μm 파장 대역에서의 분광 흡광도를 실시간 분석하여 배출 가스 종류에 대한 정성 판정 및 배출 가스양에 대한 정량 분석이 가능한 기술 개발 및 상용화 완료
• Mie 산란 원리 및 flat top 광학계 기술을 적용하여 150nm 이상의 미세 오염 입자에 대하여

3. 개발결과 요약
□ 최종목표
반도체 및 디스플레이 제조 공정 상태의 실시간 모니터링이 가능한 공정 가스 및 미세 오염 입자 정량측정 광학 측정 및 진단 시스템 개발 및 사업화

□ 개발내용 및 결과
• 배출공정 가스에 대한 0.2~5.0 μm 파장 대역에서의 분광 흡광도를 실시간 분석하여 배출 가스 종류에 대한 정성 판정 및 배출 가스양에 대한 정량 분석이 가능한 기술 개발 및 상용화 완료
• Mie 산란 원리 및 flat top 광학계 기술을 적용하여 150nm 이상의 미세 오염 입자에 대하여 입자의 크기별 분포를 실시간 계측할 수 있는 기술 개발 및 시제품 제작 완료

□ 기술개발 배경
반도체 및 디스플레이 소자 수요기업의 needs 및 기술개발 요청
• (SK하이닉스) 다양한 미 반응 공정가스 및 미세 오염입자 동시 모니터링 및 정량 분석이 필요성 급증
• (삼성디스플레이) 다양한 실시간 공정 모니터링 센서의 효율/감도향상을 통한 기존 분석기 한계 극복에 대한 needs

□ 핵심개발 기술의 의의
• 반도체 디스플레이 배출 공정 가스에 대한 실시간 흡광 정량분석이 가능한 신규 개발 기술(100% 핵심 기술 제품 국산화)
• 기존 미세 오염입자 측정 기술 대비 높은 측정 정확도와 효율을 기반으로 150 nm 급 미세 오염 입자의 실시간 모니터링 가능한 세계적 수준의 신규 기술(100% 핵심 기술 제품 국산화)
• 글로벌 반도체 및 디스플레이 장비 시장에 핵심 공정 진단센서로 높은 수출 가능성

□ 적용 분야
• 반도체 디스플레이 제조 공정 실시간 모니터링 및 차세대 공정 진단을 위한 새로운 solution
• 환경오염 배출 가스 및 대기 미세 오염 입자 모니터링
• 나노 바이오 소재 부산물 및 오염 물질 진단 및 분석
• 적외선 분석 기반 국방 응용 기술

(출처 : 초록 - 3. 개발결과 요약 4p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 최종보고서 초록 ... 3
• 기술개발사업 주요 연구성과 ... 7
• 목차 ... 12
• 제 1 장 서론 ... 13
• 제 1 절 과제의 개요 ... 13
• 제 2 장 과제 수행의 내용 및 결과(기술개발 내용 및 방법) ... 15
• 제 1 절 최종 목표 및 평가 방법 ... 15
• 제 2 절 단계 목표 및 평가 방법 ... 19
• 제 3 절 연차별 개발 내용 및 개발 범위 ... 22
• 제 4 절 수행 결과의 보안등급 ... 169
• 제 5 절 유형적 발생품(연구시설, 연구장비 등) 구입 및 관리현황 ... 169
• 제 3 장 결과 ... 170
• 제 1 절 연구개발 최종 결과 ... 170
• 1. 연구개발 추진 일정 ... 170
• 2. 연구개발 추진 실적 ... 173
• 제 2 절 연구개발 추진 체계 ... 184
• 제 3 절 고용 창출 효과 ... 185
• 제 4 절 자체보안관리진단표 ... 186
• 제 4 장 사업화 계획 ... 187
• 제 1 절 시장 현황 및 전망 ... 187
• 제 2 절 사업화 계획 ... 188
• 제 3 절 향후 추가 기술 개발 계획(개발기술 응용 등) ... 189
• 끝페이지 ... 190