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반도체 Clean - ­IMP 공정 구간의 스케줄링 모델 개발 및 적용
Development and Application of Scheduling Model for Semiconductor Manufacturing : In Cases of Clean - IMP Processes 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 부산대학교
Busan National University
연구책임자 한준희
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2023-03
과제시작연도 2022
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202300009134
과제고유번호 1711162688
사업명 개인기초연구(과기정통부)
DB 구축일자 2023-10-04
키워드 반도체생산시스템.스케줄링.반도체 세정공정.반도체이온주입공정.생산관리.Semiconductor Manufacturing System.Scheduling.Semiconductor Clean Process.Semiconductor Implantation Process.Production Management.

초록

□ 연구개요
본 연구의 최종 목표는 반도체의 8대 공정 중, 반도체 DRAM 생산의 Layer 4 단에 존재하는 Clean (Wet Station) 공정, Implantation (IMP) 공정 각각의 특성을 고려한 스케줄링 문제를 우선 연구하고, 뒤이어 두 구간(Clean-IMP)을 연결하는 2단계 구간의 생산 스케줄링 최적화를 목표로 한다.

□ 연구 목표대비 연구결과
본 연구의 목표는 크게 3단계로 구성되어 있으며, 각 단계의 목표 및 수행 내용은 아래와 같이 요약되어 있음
(1) Phase 1: C

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 연구결과 요약문 ... 2
  • 목차 ... 3
  • 1. 연구개발과제의 개요 ... 4
  • 1) 연구 목표 ... 4
  • 2) 연차별 연구 내용 ... 4
  • 2. 연구개발과제의 수행 과정 및 수행 내용 ... 5
  • 1) Wet – Station 설비의 CNN 기반 알고리즘 개발 ... 5
  • 2) IMP 공정 스케줄링 방법론 연구 ... 7
  • 3) 두 단계 Flow shop에서의 생산 공정 최적화 알고리즘 개발 ... 8
  • 3. 연구개발과제의 수행 결과 및 목표 달성 수준 ... 10
  • 1) 정성적 연구개발성과(연구개발결과) ... 10
  • 2) 세부 정량적 연구개발성과 ... 11
  • 3) 목표 달성 수준 ... 11
  • 4. 연구개발성과의 관련 분야에 대한 기여 정도(연구개발결과의 중요성) ... 11
  • 5. 연구개발성과의 관리 및 활용 계획 ... 12
  • 6. 참고문헌 ... 13
  • [붙임1] 세부 정량적 연구개발성과 ... 15
  • [붙임2] 연구책임자 대표적 연구실적 및 증빙(요약문 및 사본) ... 16
  • 끝페이지 ... 28

표/그림 (10)

참고문헌 (25)

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