최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
---|---|
연구책임자 | 김기영 |
참여연구자 | 송신애 , 임성남 , 우주영 , 김준홍 , 박종기 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2023-11 |
과제시작연도 | 2023 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
연구관리전문기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO202400000691 |
과제고유번호 | 1711200305 |
사업명 | 한국생산기술연구원연구운영비지원(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2024-06-26 |
키워드 | 반도체 검사.높이 편차.전해도금.경도.부식계수.임피던스.semiconductor inspection.height difference.electroplating.hardness.etch factor.impedance. |
□ 연구내용
● 도금특성(두께, 경도, pit불량) 확보를 위한 Ni 도금 공정기술 개발
· 도금 공정 검토를 위한 test PCB 설계 및 제작
· 전해 Ni 도금공정 변수 검토 및 공정변수에 따른 도금 품질 특성 검토
· 전처리 공정 조건과의 관계 검토 및 도금 특성에 미치는 영향 검토
· Pit 불량 최소화를 위한 도금 전후 공정 분석/검토
· 성능 목표 달성을 위한 최적 도금 조건 도출 및 공정 최적화
● 위치별 회로 높이 편차 20㎛ 이내를 위한 고품위 Ni 도금 공정 최적화
·
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.