반도체 공정에서 식각이나 증착 등 그 표면처리에 널리 사용되어지고 있는 ICP의 특성을 OES를 이용하여 진단하였다. 원통형 챔버의 위판인 유전체 판 위에 평면형으로 감아준 나선형 코일의 안테나를 놓고 그에 의해 발생한 ICP의 공간적 밀도 분포를 광학탐침을 이용 측정하였다. 안테나는 1,5Turn 감은 두 가지를 사용하였고, Ar 압력은 20~200mTorr 이었다. 압력 이상에서는 분명한 E-H 모드 전환이 관측되었으며, 그 이하 압력에서는 모드 전환이 불분명하였다. E-모드에서 광학탐침으로 측정한 ...
반도체 공정에서 식각이나 증착 등 그 표면처리에 널리 사용되어지고 있는 ICP의 특성을 OES를 이용하여 진단하였다. 원통형 챔버의 위판인 유전체 판 위에 평면형으로 감아준 나선형 코일의 안테나를 놓고 그에 의해 발생한 ICP의 공간적 밀도 분포를 광학탐침을 이용 측정하였다. 안테나는 1,5Turn 감은 두 가지를 사용하였고, Ar 압력은 20~200mTorr 이었다. 압력 이상에서는 분명한 E-H 모드 전환이 관측되었으며, 그 이하 압력에서는 모드 전환이 불분명하였다. E-모드에서 광학탐침으로 측정한 플라즈마 밀도 분포는 사진과 잘 일치하였고. H-모드에서는 챔버의 중심축으로부터 3~8cm 떨어진 위치에서 플라즈마 밀도가 실제보다 낮게 측정되는 현상이 나타났다. DBD를 이용한 방전 시스템의 전류 특성에 대하여 연구하였다. DBD 시스템으로는 Wire-Plane과 Wire-Cylinder 모양의 두 가지 형태로 제작하였다. 의 고전압을 사용한 DBD 장치에서 DBD 반응기의 형태와 전기적인 변수가 전기적 특성에 어떠한 영향을 미치는지 알아보기 위해 외부 전원의 전압, 방전극 사이의 거리, 유전체 장벽의 두께 등을 변수로 하였다. 스트리머는 반주기 중 전압이 상승하는 부분에서 발생되며, 하강하는 부분은 발생하지 않았다.
반도체 공정에서 식각이나 증착 등 그 표면처리에 널리 사용되어지고 있는 ICP의 특성을 OES를 이용하여 진단하였다. 원통형 챔버의 위판인 유전체 판 위에 평면형으로 감아준 나선형 코일의 안테나를 놓고 그에 의해 발생한 ICP의 공간적 밀도 분포를 광학탐침을 이용 측정하였다. 안테나는 1,5Turn 감은 두 가지를 사용하였고, Ar 압력은 20~200mTorr 이었다. 압력 이상에서는 분명한 E-H 모드 전환이 관측되었으며, 그 이하 압력에서는 모드 전환이 불분명하였다. E-모드에서 광학탐침으로 측정한 플라즈마 밀도 분포는 사진과 잘 일치하였고. H-모드에서는 챔버의 중심축으로부터 3~8cm 떨어진 위치에서 플라즈마 밀도가 실제보다 낮게 측정되는 현상이 나타났다. DBD를 이용한 방전 시스템의 전류 특성에 대하여 연구하였다. DBD 시스템으로는 Wire-Plane과 Wire-Cylinder 모양의 두 가지 형태로 제작하였다. 의 고전압을 사용한 DBD 장치에서 DBD 반응기의 형태와 전기적인 변수가 전기적 특성에 어떠한 영향을 미치는지 알아보기 위해 외부 전원의 전압, 방전극 사이의 거리, 유전체 장벽의 두께 등을 변수로 하였다. 스트리머는 반주기 중 전압이 상승하는 부분에서 발생되며, 하강하는 부분은 발생하지 않았다.
Inductively coupled plasma (ICP) sources are more widely used for the material surface treatment in semiconductor processing. This study presents the diagnostic results of ICP by OES. The optical probe made with optical fiber was used for measuring the spatial plasma density distribution of ICP gene...
Inductively coupled plasma (ICP) sources are more widely used for the material surface treatment in semiconductor processing. This study presents the diagnostic results of ICP by OES. The optical probe made with optical fiber was used for measuring the spatial plasma density distribution of ICP generated by an external flat spiral antenna and 13.56MHz RF power in a cylindrical metal chamber. The Optical characteristics of Ar ICP have been measured over a wide range of power at gas pressure ranging from 20mTorr to 200mTorr for each 1Turn and 5Turn antenna. From these measurements, E-H mode transition was observed at higher pressure than 100mTorr and all the transition were obscure for the pressure range from 20mTorr to 100mTorr. Plasma density distribution measured by optical probe in the E-mode coincided with the digital images taken by digital camera. However, they did not match from 3cm to 8cm in the H-mode. For the second part of the studies, the possibility of NO gas treatment using DBD system was studied. 2 types of DBD reactors were constructed. One was the Wire-Plane type and the other was Wire-Cylinder type. For better reactor design, understanding electric field structure is important. And electric field was calculated for several model system with parallel plates with dielectric material in between. Experimental parameters were the applied voltage, the thickness of dielectric barrier, the gap distance of discharge electrode and so forth. The streamer was generated in the increasing part of the voltage half cycle but in the decreasing part the streamer wasn't generated.
Inductively coupled plasma (ICP) sources are more widely used for the material surface treatment in semiconductor processing. This study presents the diagnostic results of ICP by OES. The optical probe made with optical fiber was used for measuring the spatial plasma density distribution of ICP generated by an external flat spiral antenna and 13.56MHz RF power in a cylindrical metal chamber. The Optical characteristics of Ar ICP have been measured over a wide range of power at gas pressure ranging from 20mTorr to 200mTorr for each 1Turn and 5Turn antenna. From these measurements, E-H mode transition was observed at higher pressure than 100mTorr and all the transition were obscure for the pressure range from 20mTorr to 100mTorr. Plasma density distribution measured by optical probe in the E-mode coincided with the digital images taken by digital camera. However, they did not match from 3cm to 8cm in the H-mode. For the second part of the studies, the possibility of NO gas treatment using DBD system was studied. 2 types of DBD reactors were constructed. One was the Wire-Plane type and the other was Wire-Cylinder type. For better reactor design, understanding electric field structure is important. And electric field was calculated for several model system with parallel plates with dielectric material in between. Experimental parameters were the applied voltage, the thickness of dielectric barrier, the gap distance of discharge electrode and so forth. The streamer was generated in the increasing part of the voltage half cycle but in the decreasing part the streamer wasn't generated.
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