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NTIS 바로가기NT (Nano technology) 가공 기술을 바이오 시스템, 반도체, 항공 우주, 에너지, 환경 등에 접목 시키고자 하는 노력들이 가속화 되고 있는 시점에서 최소 선폭 100nm 이하의 구조물을 제작할 수 있는 기술의 도입이 더욱 절실히 요구되고 있으며, 향 후 반도체 가공기술 분야에서 최소 선 폭이 50nm이하 가공기술이 도입될 전망으로 나노 스케일의 가공기술 수요가 더욱 증가할 전망이다. 따라서 기존의 대량생산에 적합한 optical lithography공정 기술 등과 함께 신속하고 유연하게 공정을 변경하면서 제품의 개발 및 수정을 할 수 있는 미세가공기술도 또한 더욱 중요시 되고 있다.본 연구에 이용되는 MCSPL(Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography)은 원자 탐침 형 현미경과 ...
저자 | 노동선 |
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학위수여기관 | 연세대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 기계공학과 |
지도교수 | 김대은 |
발행연도 | 2006 |
총페이지 | viii, 71장 |
키워드 | 세장비, Self-Assembled Monolayer, Si(110), MCSPL(Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography), Octadecyltriclorosilane, Hexadecanethiol, Atomic Force Microscopy |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T10505368&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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