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NTIS 바로가기반도체 공정장비 중 CVD(chemical vapor deposition)장치의 Dry cleaning 시 Cleaning 종료 시점을 SPOES 를 이용하여 확인하여 보았다. 이를 위해 분광법(spectroscopy)을 사용하였다. 또한 이를 토대로 공정 챔버의 효율적 관리가 가능한 가에 대한 검증을 하여보았다....
When dry cleaning by using one of the semiconductor process equipment, CVD(Chemical Vapor Deposition), confirmed the completion point of time of Cleaning by using SPOES(Self Plasma Optical Emission Spectroscopy). To get this data, I had the use of spectroscopy. On the basis of this data, I verified ...
저자 | 김두엽 |
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학위수여기관 | 광운대학교 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전자물리학과 |
발행연도 | 2008 |
총페이지 | vi, 20 p. |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T11503258&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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