합성 석영유리는 용융 석영유리 보다 더 높은 순도를 바탕으로 우수한 광학적 특성 (광 투과율, 굴절률 분포, 복 굴절률)으로 인해 반도체/FPD(flat panel display) 공정 중 lithography에 사용 가능한 유일한 소재로 알려져 있다. 반도체/FPD 산업의 발전에 따라 photomask 기판의 필수 소재로 그 시장이 확대되어 왔다.그러나 합...
합성 석영유리는 용융 석영유리 보다 더 높은 순도를 바탕으로 우수한 광학적 특성 (광 투과율, 굴절률 분포, 복 굴절률)으로 인해 반도체/FPD(flat panel display) 공정 중 lithography에 사용 가능한 유일한 소재로 알려져 있다. 반도체/FPD 산업의 발전에 따라 photomask 기판의 필수 소재로 그 시장이 확대되어 왔다.그러나 합성 석영유리는 기술 독과점을 통한 미국과 일본 기업이 시장을 지배하여 현재 전량 수입되고 있는 실정이다. 국내 석영유리 관련 업체는 단지 모재 수입 후 형상 가공 및 도가니 수입상의 역할만 하고 있다.본 연구에서는 SiCl4를 원료로 하고 화염방식을 이용하여 합성석영유리를 제조하고, 그 과정에서 석영유리 제품을 제조할 수 있는 시험 합성로를 고안 및 설계하여 제작한 후 합성로에 대한 성능개선 시험을 거쳐 석영유리 제조 기술을 축적하였다. 화염원료로는 수소와 산소를 이용하였으며 주요 실험 변수로는 수소와 산소 유량, 원료 투입량, 타겟(모재)과 버너간 거리, 버너의 방향 그리고 회전속도를 선정하여 각각의 변수에 따른 물성 및 제조 형태를 파악하였다. 수소와 산소 유량은 타겟과 버너간 거리와 로내 온도를 유지하는 것과 밀접한 관계가 있음을 알 수 있었다. 로내 온도는 타겟에 증착된 fumed silica가 녹을 수 있도록 약 1,800℃ 이상 유지하는 것이 중요하며 로내 온도를 2,082℃로 하였을 때 투과율이 99.7%의 합성석영유리를 제조할 수 있었다. 로내 온도가 높을수록 투과율을 증가하는 경향을 보였다. 버너는 타겟에 수직방향보다는 약 40°정도의 각을 주어 타겟 전면에 열이 전달될 수 있도록 하는 것이 적절하였다
합성 석영유리는 용융 석영유리 보다 더 높은 순도를 바탕으로 우수한 광학적 특성 (광 투과율, 굴절률 분포, 복 굴절률)으로 인해 반도체/FPD(flat panel display) 공정 중 lithography에 사용 가능한 유일한 소재로 알려져 있다. 반도체/FPD 산업의 발전에 따라 photomask 기판의 필수 소재로 그 시장이 확대되어 왔다.그러나 합성 석영유리는 기술 독과점을 통한 미국과 일본 기업이 시장을 지배하여 현재 전량 수입되고 있는 실정이다. 국내 석영유리 관련 업체는 단지 모재 수입 후 형상 가공 및 도가니 수입상의 역할만 하고 있다.본 연구에서는 SiCl4를 원료로 하고 화염방식을 이용하여 합성석영유리를 제조하고, 그 과정에서 석영유리 제품을 제조할 수 있는 시험 합성로를 고안 및 설계하여 제작한 후 합성로에 대한 성능개선 시험을 거쳐 석영유리 제조 기술을 축적하였다. 화염원료로는 수소와 산소를 이용하였으며 주요 실험 변수로는 수소와 산소 유량, 원료 투입량, 타겟(모재)과 버너간 거리, 버너의 방향 그리고 회전속도를 선정하여 각각의 변수에 따른 물성 및 제조 형태를 파악하였다. 수소와 산소 유량은 타겟과 버너간 거리와 로내 온도를 유지하는 것과 밀접한 관계가 있음을 알 수 있었다. 로내 온도는 타겟에 증착된 fumed silica가 녹을 수 있도록 약 1,800℃ 이상 유지하는 것이 중요하며 로내 온도를 2,082℃로 하였을 때 투과율이 99.7%의 합성석영유리를 제조할 수 있었다. 로내 온도가 높을수록 투과율을 증가하는 경향을 보였다. 버너는 타겟에 수직방향보다는 약 40°정도의 각을 주어 타겟 전면에 열이 전달될 수 있도록 하는 것이 적절하였다
The synthesized fumed silica glass is a unique material so far and used more than melted quartz glasses in semiconductor and FPD (flat panel display) industry because of their higher purification and optical properties (optical transmittance and the index of refractions). The market of synthesized f...
The synthesized fumed silica glass is a unique material so far and used more than melted quartz glasses in semiconductor and FPD (flat panel display) industry because of their higher purification and optical properties (optical transmittance and the index of refractions). The market of synthesized fumed silica glasses has been larger in accordance with development of semiconductor/FPD industry.Despite of their large market, all synthesized fumed silica glasses for photomask are imported from advanced countries, Japan & USA, which have a monopolistic market. Domestic companies in quartz glass market have been a role of import traders and processing plants. This research focuses on designing the furnace, controlling the manufacturing conditions for a synthesized fumed silica glass. Hydrogen and oxygen are used to flame so that help to synthesize materials and raise the furnace temperature. Main experiment conditions are the flux of H2-O2, the input of raw materials, the distance between target and burner, the direction of burner and the RPM of target. It was better to angle the burner to 40°, which transfer well the heat of burner. We got to know that the flux of H2-O2 was closely related to maintain a furnace temperature and a distance between target and burner. The proper temperature of furnace was over 1,800℃ to melt the synthesized fumed silica on target. The temperature is related to an optic transmittance. When 2,082℃, the optic transmittance of the sample was 99.7%. The higher of furnace temperature is the higher of an optic transmittance
The synthesized fumed silica glass is a unique material so far and used more than melted quartz glasses in semiconductor and FPD (flat panel display) industry because of their higher purification and optical properties (optical transmittance and the index of refractions). The market of synthesized fumed silica glasses has been larger in accordance with development of semiconductor/FPD industry.Despite of their large market, all synthesized fumed silica glasses for photomask are imported from advanced countries, Japan & USA, which have a monopolistic market. Domestic companies in quartz glass market have been a role of import traders and processing plants. This research focuses on designing the furnace, controlling the manufacturing conditions for a synthesized fumed silica glass. Hydrogen and oxygen are used to flame so that help to synthesize materials and raise the furnace temperature. Main experiment conditions are the flux of H2-O2, the input of raw materials, the distance between target and burner, the direction of burner and the RPM of target. It was better to angle the burner to 40°, which transfer well the heat of burner. We got to know that the flux of H2-O2 was closely related to maintain a furnace temperature and a distance between target and burner. The proper temperature of furnace was over 1,800℃ to melt the synthesized fumed silica on target. The temperature is related to an optic transmittance. When 2,082℃, the optic transmittance of the sample was 99.7%. The higher of furnace temperature is the higher of an optic transmittance
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.