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Recently, in semiconductor manufacturing industry, advanced process control (APC) became more important than ever before to improve the manufacturing yield and throughput. Virtual metrology (VM) in the APC is a one of key factors for realizing real-time process control process to minimize wafer-to-w...
저자 | 김범수 |
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학위수여기관 | 명지대학교 일반대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전자공학과 |
발행연도 | 2012 |
총페이지 | v, 29 p. |
키워드 | Virtual Metrology |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T12676875&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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