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NTIS 바로가기Control of colloidal silica surface for improving surface roughness and dishing in copper chemical mechanical planarization was investigated. We employed two methods that the surface property of colloidal silica changes. The one was synthesis of modified silica which had functional groups like brush...
저자 | 윤광섭 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 나노반도체공학과 |
지도교수 | 백운규 |
발행연도 | 2012 |
총페이지 | 72 p. |
키워드 | 반도체 |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T12865567&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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