차세대 디스플레이라 불리는 OLED의 대면적화를 위해서 아직 많은 기술적 이슈들을 해결해야한다. 그 중에서도 박막의 균일도는 제품의 품질에 직접적인 영향을 미친다. 이러한 기술적 문제점을 해결하기 위해 많은 실험들이 진행되고 있으나, 실험적인 방법에 드는 비용과 시간이 막대하여 어려움을 겪고 있다. 따라서 본 연구에서는 실험적인 방법이 아닌 시뮬레이션 방법을 통해 ...
차세대 디스플레이라 불리는 OLED의 대면적화를 위해서 아직 많은 기술적 이슈들을 해결해야한다. 그 중에서도 박막의 균일도는 제품의 품질에 직접적인 영향을 미친다. 이러한 기술적 문제점을 해결하기 위해 많은 실험들이 진행되고 있으나, 실험적인 방법에 드는 비용과 시간이 막대하여 어려움을 겪고 있다. 따라서 본 연구에서는 실험적인 방법이 아닌 시뮬레이션 방법을 통해 OLED 증착 공정을 예측하고 이를 실험과 비교하였다. 먼저 OLED 증착 공정에 널리 사용되고 있는 point source의 방사 특성에 관해 몬테카를로법을 이용한 시뮬레이션을 진행하였다. 그 결과 point source의 경우 노즐의 형상 즉, 노즐의 지름이나 길이에 따라 방사 특성이 변화하는 것을 알 수 있었다. 다음으로, 대면적 기판에 균일 박막을 증착시키기 위해 point source의 방사특성을 반영한 배치 시뮬레이션을 진행하였다. 그 결과 시뮬레이션 균일도는 3.42%로 예측 되었다. 이 결과를 바탕으로 실제 증착 실험을 진행하였고 그 결과 5.5세대 기판 단변에 해당되는 1,280 mm 길이에 대해 균일도 3.75%의 균일한 박막을 얻을 수 있었다. 이러한, 다수의 point source를 통해 대면적의 균일 박막을 얻을 수 있음을 시뮬레이션과 실험을 통해 확인하였다.
차세대 디스플레이라 불리는 OLED의 대면적화를 위해서 아직 많은 기술적 이슈들을 해결해야한다. 그 중에서도 박막의 균일도는 제품의 품질에 직접적인 영향을 미친다. 이러한 기술적 문제점을 해결하기 위해 많은 실험들이 진행되고 있으나, 실험적인 방법에 드는 비용과 시간이 막대하여 어려움을 겪고 있다. 따라서 본 연구에서는 실험적인 방법이 아닌 시뮬레이션 방법을 통해 OLED 증착 공정을 예측하고 이를 실험과 비교하였다. 먼저 OLED 증착 공정에 널리 사용되고 있는 point source의 방사 특성에 관해 몬테카를로법을 이용한 시뮬레이션을 진행하였다. 그 결과 point source의 경우 노즐의 형상 즉, 노즐의 지름이나 길이에 따라 방사 특성이 변화하는 것을 알 수 있었다. 다음으로, 대면적 기판에 균일 박막을 증착시키기 위해 point source의 방사특성을 반영한 배치 시뮬레이션을 진행하였다. 그 결과 시뮬레이션 균일도는 3.42%로 예측 되었다. 이 결과를 바탕으로 실제 증착 실험을 진행하였고 그 결과 5.5세대 기판 단변에 해당되는 1,280 mm 길이에 대해 균일도 3.75%의 균일한 박막을 얻을 수 있었다. 이러한, 다수의 point source를 통해 대면적의 균일 박막을 얻을 수 있음을 시뮬레이션과 실험을 통해 확인하였다.
For large-area OLED called next-generation display, a number of technical issues should still be solved. Among them, the uniformity of thin-film has a direct effect on product quality. Therefore, this study performed simulations of OLED evaporation process and experiments in order to solve these tec...
For large-area OLED called next-generation display, a number of technical issues should still be solved. Among them, the uniformity of thin-film has a direct effect on product quality. Therefore, this study performed simulations of OLED evaporation process and experiments in order to solve these technical issues. First, this study performed simulations using the Monte Carlo method on reflection properties of point source that is widely used for OELD evaporation process. The result showed that the reflection properties varied according to nozzle shape, that is to say, diameter or length of the nozzle in the point source. Next, this study performed layout simulation reflecting the reflection characteristics of the point source in order to evaporate the uniform thin-film to large area substrate. As a result, the simulated uniformity was expected to be 3.42%. The actual deposition experiments were conducted based on this result. Consequently, the thin-film with 3.75% of uniformity was obtained on 1,280mm in length. Therefore, it was confirmed that large area uniform thin-film could be obtained through a large number of point sources. It is considered that this will make it possible to form large area uniform thin film with more than 8G (2,200×2,500㎟) in the future.
For large-area OLED called next-generation display, a number of technical issues should still be solved. Among them, the uniformity of thin-film has a direct effect on product quality. Therefore, this study performed simulations of OLED evaporation process and experiments in order to solve these technical issues. First, this study performed simulations using the Monte Carlo method on reflection properties of point source that is widely used for OELD evaporation process. The result showed that the reflection properties varied according to nozzle shape, that is to say, diameter or length of the nozzle in the point source. Next, this study performed layout simulation reflecting the reflection characteristics of the point source in order to evaporate the uniform thin-film to large area substrate. As a result, the simulated uniformity was expected to be 3.42%. The actual deposition experiments were conducted based on this result. Consequently, the thin-film with 3.75% of uniformity was obtained on 1,280mm in length. Therefore, it was confirmed that large area uniform thin-film could be obtained through a large number of point sources. It is considered that this will make it possible to form large area uniform thin film with more than 8G (2,200×2,500㎟) in the future.
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