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유기EL 증착 공정에 대한 3차원 Monte Carlo 해석
Three Dimensional Direct Monte Carlo Simulation on OLED Evaporation Process 원문보기

반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, v.8 no.4, 2009년, pp.37 - 42  

이응기 (공주대학교 기계자동차공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The performance of an OLED(organic luminescent emitting device) fabrication system strongly depends on the design of the evaporation cell-source. Trends in display sizes have hauled the enlargement of mother glass substrates. The enlargement of substrates requires the improvement and the enlargement...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 각 시간 간격에서 대하여 주어진 모사 입자의 위치와 속도를 추적해 가는데, 이 과정에서 입자 개개의 상호 작용들을 난수(random number)로 표현하여 확률론적인 거동을 모사하게 된다. 본 연구에서 3차원 DSMC 해석을 위하여 증발원의 형상을 고체 모델인 CSG 모델로 표현하였으며, 입자와 CSG 모델 표면 간의 충돌 과정을 계산하고, 표현하기 위한 알고리즘을 개발하였다. 입자와 표면 충돌 알고리즘이 타당한 지를 검토하기 위하여 전반사(specular reflection) 충돌에 대한 입자와 표면의 충돌 과정을 검토하였다.
  • 본 연구에서는 유기EL 증착 공정용 증발원 개발을 위하여, 희박기체 영역에서의 유기입자 거동 해석을 위한 3차원 DSMC기법을 개발한다. 개발된 알고리즘을 노즐을 가진 점증발원에 적용하여 컴퓨터 시뮬레이션을 수행하였으며, 증발원의 유기 입자 방사 특성을 고찰하였다.
  • 실제의 문제에 있어서 유기 재료 표면으로부터 해석 공간으로 입사되는 입자들의 평균 유속이나 압력 등 유동의 경계 조건을 예측하기 어려운 것이 현실이다. 본 연구에서는 증착 속도 (deposition rate)로부터 단위시간당 증발되는 유기 입자의 수밀도(number density) 및 질량 유량를 구함으로써 유기 재료 표면에서의 증발 입자의 수를 예측하였다. 계산된 질량 유량에 의한 균일한 입자가 증발되어 유입되는 것으로 가정하였다.
  • 유기EL 증착 공정을 위하여 선형 증발원을 포함하는 다양한 형상의 증발원에 대한 DSMC 해석을 수행하기 위하여 본 연구에서는 CSG(constructive solid geometry) 모델링 기법을 적용하여 증발원의 형상을 모델링하였다. 본 연구에서 Fig.

가설 설정

  • DSMC 해석의 가정은 기체(gas)가 매우 희박하여 입자 간의 거리가 직경의 10배 이상인 경우이다. 이는 충분히 작은 계산 시간 간격 하에서 입자의 움직임과 입자 간의 충돌을 서로 분리하여 생각할 수 있다는 것이다.
  • 본 연구에서는 증착 속도 (deposition rate)로부터 단위시간당 증발되는 유기 입자의 수밀도(number density) 및 질량 유량를 구함으로써 유기 재료 표면에서의 증발 입자의 수를 예측하였다. 계산된 질량 유량에 의한 균일한 입자가 증발되어 유입되는 것으로 가정하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
OLED 디스플레이는 어떠한 장점을 갖는가? 유기EL(OLED; Organic Luminescent Emitting Device) 디스플레이는 저전압 구동, 자기 발광, 경량 박형, 광시야각, 그리고 빠른 응답 속도 등의 장점을 갖고 있는 차세대 평판 디스플레이 (FPD; Flat Panel Display)로서 세계적으로 많은 연구 및 개발이 진행되고 있다[1-3].
유기EL 디스플레이는 어떠한 현상을 이용하는 것인가? 유기EL 디스플레이는 음극과 양극을 통하여 주입된 전자와 정공이 유기물 박막에서 여기자를 형성하고, 형성된 여기자로부터 특정한 파장의 빛이 발생되는 현상을 이용하는 것으로 일반적으로 다층(multi-layer)의 박막의 구조를 이루고 있다. 현재 양산되고 있는 저분자 계열의 제품들은 저항 가열 방식의 증발원(evaporation cell-source)을 이용하여 기판(glass substrate) 위에 유기물 박막을 형성하는 진공 증착 공정(vacuum thermal evaporation process)으로 생산된다[3,4].
기존의 DSMC 해석은 대상의 물리공간에 대해 격자를 형성하여 해석하는 경우가 일반적인데, 이는 어떠한 문제점이 발생하는가? 기존의 DSMC 해석에서 해석의 대상이 되는 물리공간(physical space)에 대하여 격자(mesh)를 형성하여 해석을 수행하는 경우가 일반적이다. 그러나, 해석하고자 하는 형상이 복잡한 경우 격자의 경계를 형상 경계와 일치시키는 것이 어려우며, 이로 인한 해석 오차가 발생하는 경우가 발생한다[7].
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참고문헌 (9)

  1. Heon Lee, Sunghoon Hong, Kiyeon Yang, and Kyungwoo 

  2. Michael S. Arnold, Gregory J. McGraw, Stephen R. 

  3. 이응기, “대면적 유기EL 양산 장비 개발을 위한 증착공정 모델링,” 반도체및디스플레이장비학회지, 제5권, 제4호, pp. 29-34, 2006. 

  4. Sang Chul Lim, Seong Hyun Kim, Hye Yong Chu, 

  5. Milton S. Hess and John F. Mikosky, “Vapor Deposition 

  6. Eungki Lee, “Simulation of the Thin-film Thickness 

  7. Spencer E. Olson and Andrew J. Christlieb, “Gridless 

  8. J. B. Anderson and J. B. Fenn, “Velocity Distributions 

  9. P. S. Prasanth and Jose K. Kakkassery, “Molecular 

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