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NTIS 바로가기The trends of high integration and miniaturization have been required for the advanced semiconductor electronic devices by designing feature sizes below 10 nm currently. The lithography has become an increasingly important technology for the formation of various structures. The photo-mask in lithog...
저자 | 김혁민 |
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학위수여기관 | 한양대학교 |
학위구분 | 국내박사 |
학과 | 바이오나노학과 나노공학 |
지도교수 | 박진구 |
발행연도 | 2015 |
총페이지 | 211 |
키워드 | lapping, CMP, Cleaning, daimond, quartz, ceria, dispersion |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T13667081&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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