본 연구에서는 AFM 기반의 나노 전기 화학 증착 ( ECD)은 금속 기판에 적용 조사하였다. 미세액적 형태 의 CuSO4 와 H2SO4 혼합물 수용액에서 구리 나노 구조물의 펄스를 이용하여 금 기판 상에 AFM으로 ...
본 연구에서는 AFM 기반의 나노 전기 화학 증착 ( ECD)은 금속 기판에 적용 조사하였다. 미세액적 형태 의 CuSO4 와 H2SO4 혼합물 수용액에서 구리 나노 구조물의 펄스를 이용하여 금 기판 상에 AFM으로 증착 시킨다. 증착 영역을 국부화하려면 몇 백 나노초 펄스, 몇 마이크로 리터 전해질 이 사용된다. NanoECD는 인가 펄스 진폭, 펄스 주파수, 펄스 폭, 팁 스캔 속도, 오프 타임 전압 펄스를 인가하는 시간, 및 전해질 농도에 따른 특징이다. 이 100 ㎚ 이하 의 크기를 갖는 금속이 AFM 시스템에서 ECD 기술에 의해 제조되는 것이 확인되었다. 연구 결과 나노 구조물이 기계적, 및 전자식 -photonic 장치 의 제조에 효과적으로 사용될 수 있음을 알 수 있다.
본 연구에서는 AFM 기반의 나노 전기 화학 증착 ( ECD)은 금속 기판에 적용 조사하였다. 미세액적 형태 의 CuSO4 와 H2SO4 혼합물 수용액에서 구리 나노 구조물의 펄스를 이용하여 금 기판 상에 AFM으로 증착 시킨다. 증착 영역을 국부화하려면 몇 백 나노초 펄스, 몇 마이크로 리터 전해질 이 사용된다. NanoECD는 인가 펄스 진폭, 펄스 주파수, 펄스 폭, 팁 스캔 속도, 오프 타임 전압 펄스를 인가하는 시간, 및 전해질 농도에 따른 특징이다. 이 100 ㎚ 이하 의 크기를 갖는 금속이 AFM 시스템에서 ECD 기술에 의해 제조되는 것이 확인되었다. 연구 결과 나노 구조물이 기계적, 및 전자식 -photonic 장치 의 제조에 효과적으로 사용될 수 있음을 알 수 있다.
In this research, AFM based nano electrochemical deposition (ECD) is investigated applicable to metal substrate. In a tiny droplet type CuSO4 and H2SO4 mixture solution, copper nanostructures are deposited on gold substrate by using a pulse applied AFM. To localize deposition region, a few hundred n...
In this research, AFM based nano electrochemical deposition (ECD) is investigated applicable to metal substrate. In a tiny droplet type CuSO4 and H2SO4 mixture solution, copper nanostructures are deposited on gold substrate by using a pulse applied AFM. To localize deposition region, a few hundred nanoseconds pulses and a few microliter electrolyte are used. NanoECD is characterized according to applying pulse amplitude, pulse frequency, pulse width, tip scanrate, off-time voltage, applying pulse time, and electrolytes and their concentrations. It is confirmed that metal nanostructures with the size of less than 100nm are easily fabricated by the proposed ECD technique in a AFM system. The research results can be effectively used for manufacturing nano-mechanical, -electronic and -photonic devices.
In this research, AFM based nano electrochemical deposition (ECD) is investigated applicable to metal substrate. In a tiny droplet type CuSO4 and H2SO4 mixture solution, copper nanostructures are deposited on gold substrate by using a pulse applied AFM. To localize deposition region, a few hundred nanoseconds pulses and a few microliter electrolyte are used. NanoECD is characterized according to applying pulse amplitude, pulse frequency, pulse width, tip scanrate, off-time voltage, applying pulse time, and electrolytes and their concentrations. It is confirmed that metal nanostructures with the size of less than 100nm are easily fabricated by the proposed ECD technique in a AFM system. The research results can be effectively used for manufacturing nano-mechanical, -electronic and -photonic devices.
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