최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기
극자외선 노광 공정 기술 (Extreme Ultraviolet Lithography: EUVL) 은 13.5 nm의 파장을 사용하여 7 nm 이하 선폭을 구현시켜 반도체 양산 공정에 적용 될 가능성이 가장 높은 차세대 반도체 생산기술로 평가 받고 있다. 극자외선 노광 공정의 수율을 확보하기 위해서는 전사하고자 하는 패턴의 정보를 담은 마스크를 오염원으로부터 보호하는 것이 필요하다. 이에 대한 해결책으로 극박막으로 이루어진 EUVL용 펠리클 (Pellicle)이 제시되었다.
본 연구에서는 안정적인 EUV 펠리클을 제작하기 위해, ...
저자 | 정성훈 |
---|---|
학위수여기관 | 한양대학교 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 나노융합과학과 |
지도교수 | 안진호 |
발행연도 | 2017 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T14541919&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.