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NTIS 바로가기본 논문에서는 하프늄 알루미늄 산화막 HfAlO 의 강유전성 ( 특성 발현을 위한 알루미늄 함량 및 급속 열처리 온도 조건에 관하여 연구를 진행하였다. HfAlO 박막은 순수한 HfO2 에 비해 열처리 동안 산소 확산에 대한 저항성이 더욱 크며 알루미늄 함량이 클수록 결정화되는 온도 역시 증가한다 원자 박막 증착 (atomic layer deposition: ...
저자 | 구화영 |
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학위수여기관 | 아주대학교 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전자공학과 |
지도교수 | 김상완 |
발행연도 | 2020 |
총페이지 | 46 |
키워드 | ferroelectricity hafnium-aluminum oxide capacitor |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T15530325&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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