최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기
반도체 제조공정에서 초 미세 패턴공정과 MEMS Device 공정에 수반되는 High
Aspect Ratio Patterning을 구현하기 위하여서는 일차적으로 초고성능의 Photo Lithography 공정기술과 설비가 필요하고, Photo공정에서 구현된 Pattern을 소자로 만들기 위한 후속공정은 Etching 공정이 핵심이라 할 수 있다.
그러나 선폭의 지속적인 초미세화와 더불어 그에 따른 Photo공정에서 정밀한 ...
저자 | 김준성 |
---|---|
학위수여기관 | 한양대학교 공학대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전자공학전공 |
지도교수 | 박진섭 |
발행연도 | 2022 |
총페이지 | vii, 61 p. |
키워드 | 전자공학 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T16386223&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.