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NTIS 바로가기요업학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.28 no.7, 1991년, pp.517 - 524
김은산 (금성일렉트론(주) 반도체연구소) , 양두영 (금성일렉트론(주) 반도체연구소) , 김동원 (금성일렉트론(주) 반도체연구소) , 김우식 (금성일렉트론(주) 반도체연구소) , 최민성 (금성일렉트론(주) 반도체연구소)
The CVD process of BPSG (BoroPhosphoSilicate Glass) and its thin film properties were studied. B2H6, PH3, SiH4 and O2 gases were reacted in a AP (Atmospheric Pressure) CVD system in the temperature range of 300℃ and 460℃. The interaction of B2H6 and PH3 was studied from the deposition rate and dop...
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