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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.26 no.3, 1993년, pp.115 - 120
김영성 (서울대학교 대학원 금속공학과) , 이경일 (서울대학교 대학원 금속공학과) , 주승기 (서울대학교 대학원 금속공학과)
Aluminum thin films were deposited on the silicon substrate by the pyrolysis of TrilsoButylAluminum (TIBA) in a cold wall LPCVD reactor. The effect of substrate on the surface topograply and the decomposition reaction was investigated. The activation energy for the decomposition of TIBA was turned o...
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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