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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.5 no.5, 1995년, pp.552 - 559
전병혁 (한국과학기술원 재료공학과) , 김종석 (한국과학기술원 재료공학과) , 이원종 (한국과학기술원 재료공학과)
Titanium nitride films were deposited on the (100) oriented-p-type silicon substrates of RF plasma enhanced chemical vapor depositiom\n using a gaseous mixutre of TiCl
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