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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.6 no.3, 1997년, pp.242 - 248
홍석민 (한양대학교 물리학과) , 임창덕 (한양대학교 물리학과) , 조정희 (한양대학교 물리학과) , 안일신 (한양대학교 물리학과) , 김옥경 (한양대학교 물리학과)
Porous silicons were prepared by dry etching as well as by chemical etching. The latter is a conventional method used by many researchers. Meanwhile, the former is a new method we developed. Also the porous silicon structure was made by E-beam lithography technique. However, due to the limit of this...
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